Všechny kategorie
ENEN

plyny používané ve výrobě polovodičů

Polovodiče jsou všude, od vašich chytrých telefonů a osobních počítačů po jakýkoli jiný druh elektronického přístroje. Musí být vyrobeny prostřednictvím konkrétního procesu a použít množství plynů. Následující část zdůrazňuje přehled o různých typech plynů používaných pouze jednou průmyslovou oblastí a jak tyto vyspělé látky slouží k vytváření věcí, na které skutečně spoléháme. Různé typy plynů používané v průmyslu polovodičů Polovodiče jsou tvořeny pomocí komplexní série procesů, jako je gravování, nanesení a čištění. Různé vlastnosti a aplikace těchto plynů se liší podle konkrétního použití nebo atmosférických podmínek, ať už jsou využívány u dodavatelů průmyslových plynů, specializovaných dodavatelů plynů pro polovodiče nebo v laboratoři, poskytují široké spektrum vhodné pro všechny s kritickými vlastnostmi potřebnými ke splnění úkolu uspokojivě. V současnosti chceme představit několik hlavních plynů používaných v procesech výroby materiálů. Silan SiH4: Tento plyn je bezbarvý a rovněž je znám jako důležitý siliciemi založený elektronický materiál. Je znám svou velmi dynamickou reakčností a rychle reaguje s kyslíkem a vodou, aby vytvořil oxid křemíku SiO a vodík. Silan lze použít k umístění siliciemi založeného materiálu, jako je SiNx, buď rychle, nebo při relativně nízké teplotě. Prvek dinitrogen N2: Tento plyn je inertní a brání oxidaci. Je neustále vyráběn a potřebný pro vyprázdnění zařízení v údržbě, aby bylo odebráno překotné nasycení O2 a vlhkostí. Takový plyn také slouží k usnadnění a dopravě aktivit dalších plynů, funguje jako nosný plyn v depozici niklu a plazmově podpořené depozici niklu.

Vodík (H2) - Vodík se používá jako redukční plyn odstraňováním nepůvodností z materiálů. V výrobě polovodičů je to důležitý krok pro několik procesů, jako jsou anealing a čištění. Navíc vytváří metalické brány, které jsou nezbytné pro výrobu pokročilých CMOS zařízení.

Stabilní kyslík (O2/O) - zadávejte listy a specifické doby dodání atd. Plyn O, zatímco se kyslík používá ve mnoha plazmových procesech, jako jsou etching a strip/ash o ]]>], slouží také jako reaktant pro oxidaci kovů na SiOx nebo pro pasivační oxidace povrchu kovů.

Chlor (Cl2): Chlor je žlutý nebo červený kouřící, pachující netečný prvek v kapalné formě. Tento plyn, který je velmi reaktivní s kovovými materiály na bázi křemičitanu, oxidem křemíku a mnoha kovy jako je hliník, má široké uplatnění v etchingu struktur polovodičů.

Objevování hlavních aplikací plynů v polovodičovém průmyslu a jejich výhod

Skutečnost, že se plyny používají při výrobě polovodičů, vedla k vytvoření vysoce věrné elektroniky, jak produkují rozšířené schopnosti výroby polovodičů. Plyny mají také několik významných použití a výhod v polovodičovém průmyslu.

Plyny jako silan, amoniak a dinitrogen jsou používány k nasazování oxidu nebo nitridu síry, které budou tenkými vrstvami polovodičů. Nasazování.

Etching (gravování): Používá se k selektivnímu odstraňování nechtěných materiálů nebo vzorů z polovodičů pomocí plynů jako chlor, fluor a kyslík.

Procesní plyny: Vodík a dinitrogen jsou potřebné pro provoz zařízení na čištění polovodičů (purifikace) za účelem snížení nepuret, které mohou ovlivnit výkon zařízení.

Vyplachování: Jeden z jeho hlavních účelů je, že slouží jako vyplachovací plyn během údržby zařízení, což odstraňuje kyslík a vlhkost ze systému a udržuje materiály v lince volné.

Why choose AGEM plyny používané ve výrobě polovodičů?

Související kategorie produktů

Nemůžete najít, co hledáte?
Kontaktujte naše konzulty pro více dostupných produktů.

Vyžádevat nabídku nyní

KONTAKT