Alle kategorier
ENEN

C5F8

Forside >  Produkter >  Halokarboner >  C5F8

All

Høj Reinhed 99.999% Octafluorocyclopenten Til Halvledere 4N C5F8 Gas
Høj Reinhed 99.999% Octafluorocyclopenten Til Halvledere 4N C5F8 Gas
Høj Reinhed 99.999% Octafluorocyclopenten Til Halvledere 4N C5F8 Gas
Høj Reinhed 99.999% Octafluorocyclopenten Til Halvledere 4N C5F8 Gas
Høj Reinhed 99.999% Octafluorocyclopenten Til Halvledere 4N C5F8 Gas
Høj Reinhed 99.999% Octafluorocyclopenten Til Halvledere 4N C5F8 Gas
Høj Reinhed 99.999% Octafluorocyclopenten Til Halvledere 4N C5F8 Gas
Høj Reinhed 99.999% Octafluorocyclopenten Til Halvledere 4N C5F8 Gas
Høj Reinhed 99.999% Octafluorocyclopenten Til Halvledere 4N C5F8 Gas
Høj Reinhed 99.999% Octafluorocyclopenten Til Halvledere 4N C5F8 Gas
Høj Reinhed 99.999% Octafluorocyclopenten Til Halvledere 4N C5F8 Gas
Høj Reinhed 99.999% Octafluorocyclopenten Til Halvledere 4N C5F8 Gas
Høj Reinhed 99.999% Octafluorocyclopenten Til Halvledere 4N C5F8 Gas
Høj Reinhed 99.999% Octafluorocyclopenten Til Halvledere 4N C5F8 Gas

Høj Reinhed 99.999% Octafluorocyclopenten Til Halvledere 4N C5F8 Gas

Forespørgsel
  • Oversigt
  • Forespørgsel
  • Relaterede produkter

C5F8 Octafluorocyclopenten Gas


Bruges vidt om i den etchingsproces, der anvendes ved fremstilling af halvledere, især til størrelse og selektiv etching af de mindste geometriske funktioner (som f.eks. bredden af forbindelseskredslinjer, kontakter, grene mv.)
 
 

Tilgå os