Højrenhed (99,999 %), 10 l / 8 l C₄F₆ (hexafluorbutadien)-gasforsyning til højteknologiske anvendelser inden for elektronikproduktion

Forespørgsel

Oversigt
Forespørgsel
Relaterede produkter

Om produktet

Fremhæve

Elektronikgradspurhed til halvlederfremstilling: Vores C4F6 er tilgængeligt i ekstremt høje renhedsgrader op til 5N (99,999 %) med yderst lave forureningniveauer, herunder ilt (O2), fugt (H2O) og kulbrinter, hvilket sikrer fremragende plasma-stabilitet, konsekvent ætsningspræstation og høj procesgentagelighed, som kræves ved fremstilling af avancerede halvlederenheder. Optimeret til avancerede plasmaætsningsanvendelser: C4F6 er specifikt udviklet til præcisionsplasmaætsningsprocesser, herunder dielektrisk ætsning, ætsning af oxidlag, mønsterdannelse i lav-k-materialer og kontrol af kritiske dimensioner. Det tilbyder fremragende selektivitet, anisotrop ætsningsevne og forbedret profilnøjagtighed sammenlignet med konventionelle fluorcarbon-gasser såsom CF4, C2F6 og C3F8, hvilket gør det ideelt til fremstilling af avancerede logik-, hukommelses- og MEMS-enheder. Lav global opvarmningspotentiale (GWP)-alternativ: I forhold til traditionelle perfluorcarbon-gasser giver C4F6 højere ætsningseffektivitet, lavere gasforbrug og reduceret miljøpåvirkning, hvilket hjælper halvlederproducenter med at nå deres bæredygtigheds mål uden at kompromittere produktionens præstation og udbytte. Strikte krav til forureninger og fugt: Vi anvender avancerede gasrensesystemer, præcisionsanalyseinstrumenter og strenge kvalitetskontrolprotokoller for at sikre, at fugtindholdet (H2O) er ≤ 1 ppm, iltindholdet (O2) er ≤ 1 ppm og det samlede kulbrintindhold er ≤ 1 ppm. Dette forhindrer effektivt wafer-forurening, plasma-udefinerethed og procesfejl og sikrer konsekvent og pålidelig halvlederprocespræstation. Certificerede cylindre med halvledergrad-overfladebehandling: Vores C4F6 leveres i standardstørrelser på 47 L og 10 L samt efter behov tilpassede cylindre, fremstillet i overensstemmelse med ISO 9809-, DOT 3AA- og TPED EN-standarderne, med valgfri intern elektropolering og passiveringsbehandling for at minimere partikelgenerering, forhindre gasforurening og opretholde ultra-høj gasrenhed under opbevaring og brug.

Om os

AGEM blev etableret i 2008 som en multinational professionel producent og serviceudbyder af gasudstyr med hovedkvarter i Taiwan, Kina. Med 16 års dedikeret branchekompetence har virksomhedens globale tilstedeværelse, fremragende fremstillingskunstfærdighed og omfattende produktportefølje fastslået dens position som en benchmark-virksomhed inden for gasudstyrssektoren. Virksomheden følger en globaliseret udviklingsstrategi og har oprettet moderne produktionsbasier på det kinesiske fastland, i Taiwan, Kina, og i Indien, hvilket danner et produktions- og servicenetværk, der dækker Asien og strækker sig globalt. Hver base er udstyret med intelligente produktionslinjer og præcisionsprøvningsudstyr, hvilket muliggør fuld proceskontrol fra råmaterialebehandling til levering af færdige produkter. Med en årlig produktionskapacitet, der konsekvent rangerer blandt branchens ledere, kan virksomheden hurtigt imødegå de mangfoldige behov hos globale kunder. Kerneforretningen fokuserer på gasrelaterede kerneudstyr og omfatter et komplet produktprogram, herunder forskellige industrielle gasser, specialiserede gasventiler, højtryksflasker, lette aluminiumsflasker og højpræcise tryknedsættere. Disse produkter anvendes bredt i kritiske sektorer såsom kemikalier, elektronik, sundhedspleje og energi. Ved at bygge på dyb teknisk ekspertise har produkterne opnået ISO 9001-certificering for kvalitetsstyringssystemer samt flere autoritative internationale certificeringer, herunder ASME-certificering for højtryksudstyr, CE-PED-certificering for adgang til EU-markedet og IECEx-certificering for eksplosionsbeskyttelse til global anvendelse. Nøglepræstationsindikatorer såsom tæthedsydelse, trykstyrke og sikkerhedsbeskyttelse har opnået internationalt avancerede niveauer. Virksomheden prioriterer konsekvent teknologisk innovation som sin kernekompetitive styrke og har samlet et internationalt forsknings- og udviklingsteam samt investerer løbende i teknologiske gennembrud.

Fælles spørgsmål

Hvilke renhedsklasser af C4F6 tilbyder I?

Vi tilbyder halvledergrad C4F6, herunder 4N (99,99 %), 4,5N (99,995 %) og 5N (99,999 %). Højere renhedsklasser er tilgængelige efter anmodning.

Hvad er de typiske anvendelsesområder for C4F6?

C4F6 bruges primært til plasmaætsning i halvlederindustrien, ætsning af dielektriske lag, oxidætsning, ætsning af lav-k-dielektrika, MEMS-fremstilling og fremstilling af avancerede integrerede kredsløb.

Hvilke cylindervolumener er tilgængelige?

Standardindpakning omfatter 47 L-cylinder, 10 L-cylinder, 8 L-cylinder samt specialtilpassede cylindre efter anmodning. Elektropolering af cylinderens inderside er tilgængelig til halvlederanvendelser.

Hvad er den typiske fyldetryk og fyldemængde?

De typiske fyldningsparametre omfatter et fyldetryk på op til 13–15 MPa og en fyldemængde på ca. 20–25 kg i en 47 L-cylinder. Den præcise fyldemængde afhænger af renhedsklassen og kundens krav.

Hvilken ventilttype anvendes til C4F6-cylindre?

Almindelige ventiltyper inkluderer CGA 716, DISS 716 og tilpassede ventiltyper til halvlederbrug. Ventilvalg kan tilpasses efter regionale standarder

Hvordan sikrer I gasrens og -stabilitet?

Vi sikrer kvaliteten gennem avancerede gasrensesystemer, teknologi til fjernelse af fugt og ilt, gaschromatografi (GC)-analyse samt Certifikat for analyse (COA), som udleveres med hver flaske

Hvad er leveringstiden?

Typisk leveringstid er 15–25 dage efter modtagelse af forudbetaling. Hurtigere levering er mulig afhængigt af lagerbeholdning og flaskeforberedelse

Hvilke certificeringer overholder jeres flasker?

Vores flasker overholder ISO 9809-, DOT 3AA-, TPED- og EN-standarderne. Tredjepartsinspektion er tilgængelig på anmodning.