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Suministro de gas hexafluorobutadieno C4F6 de alta pureza (99,999 %), 10 L y 8 L, para aplicaciones de alta tecnología y fabricación electrónica
- Descripción general
- Consulta
- Productos relacionados
Sobre el producto
El punto más alto
Pureza de grado electrónico para la fabricación de semiconductores. Nuestro C4F6 está disponible en grados de pureza ultralta, hasta 5N (99,999 %), con niveles extremadamente bajos de impurezas, incluidos oxígeno (O2), humedad (H2O) e hidrocarburos, lo que garantiza una estabilidad superior del plasma, un rendimiento constante de grabado y una alta repetibilidad de proceso, requisitos esenciales para la fabricación avanzada de dispositivos semiconductores. Optimizado para aplicaciones avanzadas de grabado por plasma: el C4F6 está diseñado específicamente para procesos de grabado por plasma de alta precisión, como el grabado dieléctrico, el grabado de capas de óxido, el modelado de materiales de baja constante dieléctrica (low-k) y el control de dimensiones críticas, ofreciendo una selectividad superior, capacidad de grabado anisotrópico y mayor precisión de perfil en comparación con gases fluorocarbonados convencionales como CF4, C2F6 y C3F8, lo que lo convierte en la opción ideal para la fabricación avanzada de circuitos lógicos, memorias y sistemas microelectromecánicos (MEMS). Alternativa con bajo potencial de calentamiento global (GWP): en comparación con los gases perfluorocarbonados tradicionales, el C4F6 ofrece una mayor eficiencia de grabado, menor consumo de gas y un impacto ambiental reducido, ayudando a los fabricantes de semiconductores a alcanzar sus objetivos de sostenibilidad sin comprometer el alto rendimiento productivo ni el rendimiento (yield). Control riguroso de impurezas y humedad: utilizamos sistemas avanzados de purificación de gases, instrumentos analíticos de precisión y protocolos estrictos de control de calidad para garantizar que la humedad (H2O) sea ≤ 1 ppm, el oxígeno (O2) sea ≤ 1 ppm y los hidrocarburos totales sean ≤ 1 ppm, evitando así efectivamente la contaminación de obleas, la inestabilidad del plasma y los defectos de proceso, y asegurando un rendimiento constante y fiable en el procesamiento de semiconductores. Cilindros certificados con tratamiento superficial de grado semiconductor: nuestro C4F6 se suministra en cilindros estándar de 47 L y 10 L, así como en tamaños personalizados, fabricados conforme a las normas ISO 9809, DOT 3AA y TPED EN, con opción de pulido electrolítico interno y pasivación para minimizar la generación de partículas, prevenir la contaminación del gas y mantener la pureza ultralta del gas durante su almacenamiento y uso.
Sobre Nosotros
AGEM fue fundada en 2008 como fabricante y proveedor de servicios profesional multinacional de equipos para gases, con sede central en Taiwán, China. Con 16 años de experiencia especializada en el sector, su presencia global, su excelencia en la fabricación y su amplia cartera de productos han consolidado su posición como empresa de referencia en el sector de los equipos para gases. La compañía sigue una estrategia de desarrollo globalizado, estableciendo bases modernas de producción en la China continental, Taiwán, China y la India, lo que le permite conformar una red de producción y servicios que abarca Asia y se extiende a nivel mundial. Cada base está equipada con líneas de producción inteligentes y equipos de ensayo de precisión, lo que posibilita un control integral del proceso, desde el tratamiento de las materias primas hasta la entrega del producto terminado. Con una capacidad anual de producción que constantemente figura entre las más altas del sector, la empresa puede responder con rapidez a las diversas necesidades de sus clientes globales. Su actividad principal se centra en equipos nucleares relacionados con los gases, abarcando una gama completa de productos que incluye diversos gases industriales, válvulas especializadas para gases, cilindros de alta presión, cilindros ligeros de aluminio y reductores de presión de alta precisión. Estos productos se aplican ampliamente en sectores críticos como el químico, el electrónico, el sanitario y el energético. Gracias a su profundo conocimiento técnico, los productos cuentan con la certificación del Sistema de Gestión de la Calidad ISO 9001 y múltiples certificaciones internacionales reconocidas, tales como la certificación ASME para equipos de alta presión, la certificación CE-PED para el acceso al mercado de la Unión Europea y la certificación IECEx para protección contra explosiones, válida a escala global. Indicadores clave de rendimiento, como el desempeño de estanqueidad, la resistencia a la presión y la protección de seguridad, han alcanzado niveles internacionalmente avanzados. La empresa prioriza constantemente la innovación tecnológica como su principal ventaja competitiva, contando con un equipo internacional de investigación y desarrollo e invirtiendo continuamente en avances tecnológicos.
Preguntas frecuentes
¿Qué grados de pureza de C4F6 ofrecen?
Ofrecemos C4F6 de grado semiconductor, incluidos los grados 4N (99,99 %), 4,5N (99,995 %) y 5N (99,999 %). Grados de mayor pureza están disponibles bajo solicitud.
¿Cuáles son las aplicaciones típicas del C4F6?
El C4F6 se utiliza principalmente en el grabado por plasma de semiconductores, el grabado de capas dieléctricas, el grabado de óxidos, el grabado de dieléctricos de baja constante dieléctrica (low-k), la fabricación de sistemas microelectromecánicos (MEMS) y la fabricación avanzada de circuitos integrados.
¿Qué tamaños de cilindros están disponibles?
El embalaje estándar incluye cilindros de 47 L, 10 L y 8 L, así como cilindros personalizados bajo solicitud. El pulido electrolítico interno del cilindro está disponible para aplicaciones semiconductoras.
¿Cuál es la presión de llenado y el peso de llenado típicos?
Los parámetros típicos de llenado incluyen una presión de llenado de hasta 13 a 15 MPa y un peso de llenado aproximado de 20 a 25 kg en un cilindro de 47 L. El peso exacto de llenado depende del grado de pureza y de los requisitos del cliente.
¿Qué tipo de válvula se utiliza en los cilindros de C4F6?
Los tipos de válvulas comunes incluyen CGA 716, DISS 716 y válvulas personalizadas de grado semiconductor. La selección de válvulas puede personalizarse según las normas regionales
¿Cómo garantizan la pureza y estabilidad del gas?
Garantizamos la calidad mediante sistemas avanzados de purificación de gases, tecnología de eliminación de humedad y oxígeno, análisis por cromatografía de gases (GC) y Certificado de Análisis (COA) proporcionado con cada cilindro
¿Cuál es el plazo de entrega?
El plazo de entrega habitual es de 15 a 25 días tras la recepción del depósito. Se ofrece entrega acelerada según disponibilidad de stock y preparación de los cilindros
¿Con qué certificaciones cumplen sus cilindros?
Nuestros cilindros cumplen con las normas ISO 9809, DOT 3AA, TPED y EN. La inspección por parte de un tercero está disponible bajo solicitud.
