EN
AR
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
TL
ID
SK
SL
UK
VI
TH
TR
AF
MS
SW
GA
CY
BE
KA
LO
LA
MI
MR
MN
NE
UZ
Díthreachta 99.999% Grád Eletronic do Úsáid Seimiconduchtóirí C4F6 Gás Octafluorocyclobutane Gás
- Aireamh
- Fiosrúchán
- Daltaí Cineálacha
Éachtógacht Thiarthaithe Mhatéarálacha Bhasaithe ar Dhathanna, Gáisí Líofa Compraimhithe Fhorfluoro 2 butyne H 2316 Forfluoro2butyne C4F6
Is gás líofa compraimhithe, toxainneach, gan dath, gan gasúr agus cinnte a bhfuil Hexafluoro1,3‐butadiene ann
Taispeánann blianta de taighde go bhfuil cúig phríomh-bhuannacht ag C4F6 (H-2316) do chás éachtógachta thiarthaithe mhatéarálacha bhasaithe ar dhatha:
Tá réad éadach níos airde aici agus tá rogha níos fearr aici ná octafluorocyclobutane (c-C4F8 – H318), etach eile atá úsáidte go leor freisin do siasc óxaid. Fosta, gan C4F8 (H318) a úsáid, ag baint úsáide as C4F6 (H2316), etáchar an fhoromhain amháin. Tá an chuid atá etaithe againn níos fearr faoi ghnéas, lena rathanna níos cunnmha i gcomparáid le c-C4F8. Tá foirfeadh VOC níos lú: is ionannasach le cúlra fós-gheimhridh é C4F6 (H2316) mar tá beart sa sprioc mórán níos gearr aici sa ghaoth.
Feidhmchlár:
Tugtar isteach na hábharacha coir seo ar son an chéad stair den phróiseas tuarascáil LSI chun líne circe agus gleic a laghdú chun íochtar. Úsáidfear an ghais dry etching sa phróiseas etachtais de chloch teagmhála. Mar thoradh ar na gás speisialta atá bunaithe ar thearmuimhíocht CxFy, níos lú an gcás F/C, níos mó CF2 grúpaí a léiríonn sé. I gcomparáid le C2F6 C3F8, is níos lú an gcás F/C ag C4F6 agus léiríonn níos mó CF2 grúpaí, a d'fhreastalaíonn ar an méid sin níos mó de fhréamh óxaid. Mar sin féin, is níos fearr rogha é C4F6 don fhéamh óxaid agus ligann sé don éacht níos comhionann.
