ALL

Სამწარმო ფასი 99.999%-იანი ხასიათის 5n ნეონის გაზი გამოიყენება ნეონის გაზის ფასისთვის სინდისკენისთვის

Სამწარმო ფასი 99.999%-იანი ხასიათის 5n ნეონის გაზი გამოიყენება ნეონის გაზის ფასისთვის სინდისკენისთვის

Პროდუქტის სახელი :	რეკვითი ნეონი	Ჩистотა:	99.999%
CAS NO	7440-01-9	EINECS ნომერი	231-110-9
MF:	Ne	Მოლარული მასა	7440-01-9.mol
UN ნომერი:	1056	Საშიშლელი კლასი	2.2
Მაგალითი:	Უსაფუძვლო	Მრავალი	მოხუცეული

Ინკვირი

Გენერალური ინფორმაცია
Ინკვირი
Დაკავშირებული პროდუქტები

Პროდუქტების აღწერა

Factory Price High Purity 99.999% 5n Neon Gas Use For Lighting Neon Gas Price factory

Factory Price High Purity 99.999% 5n Neon Gas Use For Lighting Neon Gas Price manufacture

Სამწუხარო დანიშნულებით 99.999% ნეონი Ne გამოიყენება სპეციალური აირის მიღებისათვის

Ნეონი არის ძირითადი კომპონენტი ექსიმერი ლაზერის აირის მიშენებაში, რომელიც გამოიყენება ლაზერული სინათლის შექმნისთვის ზუსტი ფოტოლითოგრაფიისთვის და პოლისილიკონის ფილმების კონტროლირებული ანელირებისთვის. ნეონის მოთხობის მძიმეებია Lasik, OLED/FPD (ეკრანები) და DUV ლითოგრაფია.

Პროდუქტის სახელი :	რეკვითი ნეონი	Ჩистотა:	99.999%
CAS NO	7440-01-9	EINECS ნომერი	231-110-9
MF:	Ne	Მოლარული მასა	7440-01-9.mol
UN ნომერი:	1056	Საშიშლელი კლასი	2.2
Მაგალითი:	Უსაფუძვლო	Მრავალი	მოხუცეული

Შემოწმების პუნქტი	ერთეული	Სისუფთავე
ნეონი	/	99.999
O2	ppmv	≤1.0
N2	ppmv	≤2.0
H2	ppmv	≤1.0
He	ppmv	≤6.0
CO2	ppmv	≤0.5
Co	ppmv	≤0.5
CH4	ppmv	≤0.5
Წვლილი	ppmv	≤2.0

Აპლიკაცია

Გამოყენება	Ტიპიური გამოყენება
Ნეონის ლამპები	Ნეონის სანათლებლად და ელექტრონიკის ინდუსტრიისთვის (მაგ. მაღალვoltage-იანი ქსენონის ლამპები, კონტრიბული ტუბები და т.დ.);
Ლაზერული ტექნოლოგია	Გამოიყენება ლაზერ ტექნოლოგიაში, იlluminate ინდიკატორის სინათლე, voltage regulation-ის და ლაზერის აირჩევანი გაზის მიშენებით;
Სასული	Ნეონი, ჟანგბადის მინიჭებული გაზი სანახო ჰელიუმის ნაცვლად ჟანგბადის გარეშე და흡ობისთვის
Სპეციალური გაზის წყარო	გამოიყენება დაბალ ტემპერატურის გამყირვების, სტანდარტული გაზის, სპეციალური მიშენების და ა.შ. საფუძველების როგორც;
მაღალ ენერგიის ფიზიკური კვლევა	Მაღალ ენერგიის ფიზიკური კვლევისთვის, სანახო სპირალის შევსებისთვის სპირალის კამერაში მართვის და ნაწილაკების მოქმედების განსაზღვრად.