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- Conspectus
- Inquisitio
- Producta Relata
C5F8 Octafluorocyclopentene Gas
Late utitur in processu scalpturae fabricationis apparatus semiconductor, praesertim pro magnitudine et scalptura selectiva minimarum figurarum geometricarum (ut sunt latitudo lineae interconnectionis, contactus, foveae, etc.).
