Omnes Categoriae

ArF F2 Argon Mixtura Gas Laser pro Alcon Allegretto Wavelight 400Hz Gas Cylinder Laser Excimer

  • Conspectus
  • Inquisitio
  • Producta Relata

Introducimus, AGEM's ArF F2 Argon Mixture Laser Gas pro Alcon Allegretto Wavelight 400Hz Excimer Laser Gas cylindro. Hoc productum ad praebendam eximiam operationem systemati laseris tui descriptum est. Cum potentissima mixtura ArF F2 et Argon, hic cylindrus offert notabilem fidem et stabilitatem.

 

AGEM's ArF F2 Argon Mixture Laser Gas pro Alcon Allegretto Wavelight 400Hz Excimer Laser Gas cylindro compatibilis est cum latiore serie systematum laseris, inter quae est Alcon Allegretto Wavelight 400Hz Excimer Laser. Hoc productum ingenitum est ut praestet optimam operationem per longiorem tempus, minuendo probabilitatem defectus systematis aut inoperantis propter instabilitatem gasis.

 

Cylindrus altissime materiales utitur quae certificant gas esse purum et liberum ab immunditiis. Hae materiae diligenter electae sunt ut asseverent gas non contaminari alicuius contaminantium, quae possunt mutare naturam radiantis laseris.

 

Laser gas AGEM's ArF F2 Argon Mixture pro Alcon Allegretto Wavelight 400Hz Excimer Laser est etiam tute uti. Cylindrus designatus est cum tuta mente, incorporantes elementa quae prohibent gas effluere aut reagere cum aliis substantiis. Praeterea, productum est conformitas cum omnibus necessariis normis securitatis, sic ut systema tuum sit securum et operetur absque periculo ad staff.

 

Hoc productum est etiam prompte available ad rationabile pretium. Cylinder laser gas AGEM's ArF F2 Argon Mixture pro Alcon Allegretto Wavelight 400Hz Excimer Laser est productum pretio competitivo quod praebet eximiam valorem pecuniae tuae. Offert combinationem idealem qualitatis performance et rationabilitatis, permitte te consequi resultatos superiores sine incurrere significantes summas.


ArF F2 Argon Mixture Laser Gas Pro Alcon Allegretto Wavelight 400Hz

Mixturae laseris excimer sunt combinatio gazum rarorum (argon, krypton, xenon, vel neon) et gazum halogenorum (fluorine aut chlorine). Mixtura gazum determinat longitudinem undae luminis DUV producti. Argon+fluorine+neon (193nm) et Krypton+fluorine+neon (248nm) sunt duae mixturae communissimae usitatae. Quantum ad volumen; neon constituit circiter 96–97.5% mixturae.
Categoria
Componentis %
Libra Gas


He-Ne Laser Mixture Gas
2~8.3 Ne
Maximus


CO2 Laser Mixture Gas
0.4H2+ 13.5CO2+ 4.5Kr
/


0.4 H2+ 13CO2+ 7Kr+ 2CO
0.4 H2+ 8CO2+ 8Kr+ 4CO
0.4 H2+ 6CO2+ 8Kr+ 2CO
0.4 H2+ 16CO2+ 16Kr+ 4CO
0.4 H2+ 8~12CO2+ 8~12Kr
Kr-F2 Laser Mixtura Gas
5 Kr+ 10 F2
/


5 Kr+ 1~0.2 F2
Tignum laser Gas
18.5N2+ 3Xe+ 2.5CO
/


Excimer Laser
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 1F2
AR


25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 5F2
Maximus

25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 0.2F2
Maximus

25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 5HCl
A

Excimer gasorum exempla partiales
Notam
Necem
Cylindrus
Valvae



COHERENS
193nm
20 L
DIN 8



B & L
193nm
20 L/L L
DIN 8/DIN 14



Zeiss
193nm
10L/20 L
DIN 8



VISX
193nm
16 L
CGA 679



NIDEK
193nm
16 L
CGA 679



LASERSIGHT
193nm
10 L
CGA 679



Alcon
193nm
16 L
CGA 679



SCHWIND
193nm
20 L
DIN 8/DIN 14



SUMMIT
193nm
16 L
CGA 679



Aliqua applicationes ArF laseris comprehendunt fabricationem circuituum integratorum semiconductorum. Facilitat etiam analysin in situ sample mineralium ex processu ablationis.

Quid elige US
Descriptio productorum
Imagines Detalium
Profilum Societatis
Commodum
Applicatio
Imbucatio & Mercatura
QRA
Logistica

Concinite