EN
AR
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
TL
ID
SK
SL
UK
VI
TH
TR
AF
MS
SW
GA
CY
BE
KA
LO
LA
MI
MR
MN
NE
UZ
Laser Excimer Gas KrF 248nm TUIMIX-CTMN-KrF-V2.0 Mixtura Gas F2, Krypton, Helium, Neon
| Excimer gasorum exempla partiales | |||
| Notam | Necem | Cylindrus | Valvae |
| COHERENS | 248nm | 10 L | DIN 8/JIS |
| B & L | 193nm | 20 L/L L | DIN 8/DIN 14 |
| Zeiss | 193nm | 10L/20 L | DIN 8 |
| VISX | 193nm | 16 L | CGA 679 |
| NIDEK | 193nm | 16 L | CGA 679 |
- Conspectus
- Inquisitio
- Producta Relata
Laser argonii fluoride (KrF) est genus laseris excimer. Laseres excimer (abbreviatione a "excited dimer") constent mixtura gasis nobiles sicut xenon, krypton vel argon et gas halogenum sicut chlorinum aut fluorinum, quod, cum subiectum altissimo pressioni et stimulationi electricae sit, emittit lucem ultraviolettam (UV) in regione 248 nm.
|
Categoria
|
Pars (%)
|
Libra Gas
|
||
|
He-Ne Laser Mixture Gas
|
2~8.3 Ne
|
Maximus
|
||
|
CO2 Laser Mixture Gas
|
0.4H2+ 13.5CO2+ 4.5Kr
|
/
|
||
|
0.4 H2+ 13CO2+ 7Kr+ 2CO
|
||||
|
0.4 H2+ 8CO2+ 8Kr+ 4CO
|
||||
|
0.4 H2+ 6CO2+ 8Kr+ 2CO
|
||||
|
0.4 H2+ 16CO2+ 16Kr+ 4CO
|
||||
|
0.4 H2+ 8~12CO2+ 8~12Kr
|
||||
|
Kr-F2 Laser Mixtura Gas
|
5 Kr+ 10 F2
|
/
|
||
|
5 Kr+ 1~0.2 F2
|
||||
|
Tignum laser Gas
|
18.5N2+ 3Xe+ 2.5CO
|
/
|
||
|
Excimer Laser
|
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 1F2
|
AR
|
||
|
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 5F2
|
Maximus
|
|||
|
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 0.2F2
|
Maximus
|
|||
|
25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 5HCl
|
A
|
|
Excimer gasorum exempla partiales
|
|||
|
Notam
|
Necem
|
Cylindrus
|
Valvae
|
|
COHERENS
|
248nm
|
10 L
|
DIN 8/JIS
|
|
B & L
|
193nm
|
20 L/L L
|
DIN 8/DIN 14
|
|
Zeiss
|
193nm
|
10L/20 L
|
DIN 8
|
|
VISX
|
193nm
|
16 L
|
CGA 679
|
|
NIDEK
|
193nm
|
16 L
|
CGA 679
|
|
LASERSIGHT
|
193nm
|
10 L
|
CGA 679
|
|
Alcon
|
193nm
|
16 L
|
CGA 679
|
|
SCHWIND
|
193nm
|
20 L
|
DIN 8/DIN 14
|
|
SUMMIT
|
193nm
|
16 L
|
CGA 679
|
Composita organica et materiae biologicae facile adsorbunt lumen UV emittendum ab laser ArF. Hic laser scindit vincula molecularia materialium, quae postea disperguntur in aere per ablationem modo controlloso, potius quam uri. Proinde, laser ArF habet potentiam amoliri tenuissimas stratas materialium superficierum sine calefactione. Haec proprietas facit ut laser ArF excimer communiter utiatur in machinis photolithographiae altissimae resolutionis, technologia quae est criticalis pro productione microelectronicorum chipium ad usum ophthalmologicum. Alii usus laseris ArF comprehendunt productionem circuituum integratorum semiconductorum. Item facilitat analysin in situ exemplarum mineralium ex processu ablationis.
Brand: AGEM
AGEM laudatur praesentando Gas Laser Excimer KrF 248nm TUIMIX-CTMN-KrF-V2.0 Mixtura Gas F2, Krypton, Helium, Neon, et haec mixtura certe promittit innovationes quae revolutionabunt technologiam laseris. Haec mixtura fluorini (F2), kryptonis, helium et neon praebet effectivitatem et accurate sine par in multis applicationibus.
In medio huius Gas Laser Excimer KrF 248nm TUIMIX-CTMN-KrF-V2.0 Mixtura Gas F2, Krypton, Helium, Neon est laser excimer KrF 248nm, qui generat fasciculum magnae potentiae qui possit vaporizare et ablatum materiales cum summa accurate. Mixtura TUIMIX-CTMN-KrF-V2.0 gas hoc processum meliorat praebendo stabiliorem, productionem uniformem quae reducit dispendium et auget productivitatem.
Unum ex pluribus praesidiis quae sunt essentialia cum Excimer Laser Gas KrF 248nm TUIMIX-CTMN-KrF-V2.0 Mixture Gas F2,Krypton,Helium,Neon est libertas eius. Adhiberi potest pro varietate applicationum commercii et medicinalium ab microelectronicis et semiconductivis usque ad instrumenta medicinalia et biotechnologiam investigationem. Praecisio eius est maxime alta et minime perturbata, idque eam optime aptam reddit ad materiales delicatas et formas complexas, sic ut datas desideratas semper consequatur.
Solummodo unum plus bonum hoc est certe utile de AGEM Excimer Laser Gas KrF 248nm TUIMIX-CTMN-KrF-V2.0 Mixture Gas F2, Krypton, Helium, Neon est eius compositio, diligenter excogitata ad aequilibrium stabilitatis et reactivitatis. Hoc significat quod gas servat constantem operationem, minuens tempus inoperosum et maximam productivitatem. Praeterea, mixtura est optimata ad minuendum periculosa excrementa, efficiens eam viridior quam plures alia optiones gasis laseris.
Clientelae qui Excimer Laser Gas KrF 248nm TUIMIX-CTMN-KrF-V2.0 Mixture Gas F2, Krypton, Helium, Neon inveniunt possunt obtinere excellentem clientelam ab AGEM. Universitas nostrorum expertorum est praeparata ad respondendum omnibus quaestionibus pertinentibus et ad praebendum auxilium ut certificatio sit quod productum integre in fluxum operis includatur. Praestamus etiam pretia competitiva et expeditam navigationem ad aptandum tua desideria.
