EN
AR
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
TL
ID
SK
SL
UK
VI
TH
TR
AF
MS
SW
GA
CY
BE
KA
LO
LA
MI
MR
MN
NE
UZ
ກ๊າຊຄວາມສະແດງສູງສຳລັບອິเลັກໂຕນิก Monofluoromethane 99.999% FC41 UN 2454 Halocarbon 41 Methyl Fluoride CH3F
- ຄວາມເປັນມາ
- ການຖາມຫໍ
- ສິນຄ້າທี่เกີດ;
ກ๊າຊຄວາມສະແດງສູງສຳລັບອິเลັກໂຕນิก Monofluoromethane 99.999% FC41 UN 2454 Halocarbon 41 Methyl Fluoride CH3F
AGEM ผลิตและขายแก๊ส Monofluoromethane ความบริสุทธิ์สูง (CH3F) เพื่อใช้ในกระบวนการผลิตชิปเซมิคอนดักเตอร์
Fluoromethane, ແຍກອີງວ່າ methyl fluoride, Freon 41, Halocarbon-41 ແລະ HFC-41, ເປັນກ๊າຊທີ່ສາມາດເປັນນ້ຳໄດ້ໃນອຸນຫະພູມແລະຄວາມດັບຕາມສະຖານະທົ່ວໄປ มັນສ້າງໂດຍຄານ, ມື້ຍ ແລະ ອັນໂຟຣິນ. ນາມສຳຫຼັບມາຈາກການທີ່ມັນແມ່ນ methane (CH4) ທີ່ມີอะຕົມອັນໂຟຣິນແທນທີ່ຫນຶ່ງຂອງอะຕົມມື້ຍ. มັນໃຊ້ໃນການຜະລິດສີ້ເມືອງທີ່ເປັນການເສົ້ມເປັນກ๊າຊໃນເຄື່ອງ reactors plasma etch.
Fluoromethane, ເປັນທີ່ຮູ້ຈັກຫຼາຍກວ່າວ່າ methyl fluoride (MeF) ຫຼື Halocarbon 41 ເປັນກ๊າຊທີ່ສາມາດເປັນນ້ຳໄດ້ທີ່ບໍ່ມີລັກສະນະທີ່ໃຊ້ໃນການຜະລິດສີ້ເມືອງແລະສິນຄ້າອິเลັກໂຕນິກ. ໃນການມີ RF field มັນຈະແຍກອອກເປັນไอອັນອັນໂຟຣິນສໍາລັບການເສົ້ມເລືອກແລ້ວ silicon compound films.
ການໃຊ້ :CH3F ແມ່ນກ๊າສພິເສດທີ່ໃຊ້ໃນຂົງການຜະລິດຊີບເຊມິຄອນສໍາລັບການປະຕິບັດ ການເຮັດວັດຖຸ nitride ທີ່ເປັນໄຟື້ນໂດຍການ etching. CH3F ໄດ້ຖືກໃຊ້ຫຼາຍໃນການຜະລິດຊີບເຊມິຄອນ ເຈົ້າຂອງ memory chips ຖ້າວ່າ NAND flash ແລະ DRAM ທີ່ຕ້ອງການເทັກນິໂຄລົງ micromachining. ເນື່ງຈາກການເລືອກເອົາ etching ຂອງມັນສູງກວ່າການເລືອກເອົາອື່ນໆ, CH3F ໄດ້ຖືກເລືອກໃຫ້ເປັນການ micromachining ຂອງ 3D NAND flash ທີ່ມີສາມຊັ້ນ. ການຂໍ້ຂ້າງ CH3F ໄດ້ເພີ່ມຂຶ້ນຫຼາຍໃນເວລານີ້ ເນື່ງຈາກການເລີ່ມຕົ້ນຂອງເສັ້ນທີ່ຜະລິດ 3D NAND flash.
