ທັງໝົດ

Excimer Laser Gas KrF 248nm TUIMIX-CTMN-KrF-V2.0 Mixture Gas F2,Krypton,Helium,Neon

Excimer Laser Gas KrF 248nm TUIMIX-CTMN-KrF-V2.0 Mixture Gas F2,Krypton,Helium,Neon

แก๊สเอ็กไซเมอร์สำหรับรุ่นย่อยบางรุ่น
ຍີ່ຫໍ້	ຄວາມຍາວຂອງຄື້ນ	ຫມໍ້ໄຟ	ลูกล็อค
COHERENT	248nm	10 L	DIN 8/JIS
B & L	193nm	20 L/50 L	DIN 8/DIN 14
Zeiss	193nm	10L/20 L	DIN 8
VISX	193nm	16 L	CGA 679
NIDEK	193nm	16 L	CGA 679

ສອບຖາມ

ຄຳອະທິບາຍໂດຍຫຍໍ້
ສອບຖາມ
ຜະລິດຕະພັນທີ່ກ່ຽວຂ້ອງ

เลเซอร์อาร์กอนฟลูออไรด์ (KrF) เป็นประเภทหนึ่งของเลเซอร์เอ็กไซเมอร์ เลเซอร์เอ็กไซเมอร์ (ย่อมาจาก "excited dimer") ประกอบด้วยสารผสมของแก๊สน้ำยา เช่น เซนนอน, คริปตอน หรือ อาร์กอน และแก๊สฮาโลเจน เช่น คลอรีน หรือ ฟลูออรีน เมื่อถูกกระตุ้นด้วยแรงดันสูงและไฟฟ้า จะปล่อยแสงยูวี (UV) แบบกระตุ้นในช่วงความยาวคลื่น 248 นาโนเมตร

ປະເພດ	ສ່ວນປະກອບ (%)	Balance Gas
He-Ne Laser Mixture Gas	2~8.3 Ne	He
CO2 Laser Mixture Gas	0.4H2+ 13.5CO2+ 4.5Kr	/
			0.4 H2+ 13CO2+ 7Kr+ 2CO
			0.4 H2+ 8CO2+ 8Kr+ 4CO
			0.4 H2+ 6CO2+ 8Kr+ 2CO
			0.4 H2+ 16CO2+ 16Kr+ 4CO
			0.4 H2+ 8~12CO2+ 8~12Kr
แก๊สผสมเลเซอร์ Kr-F2	5 Kr+ 10 F2	/
แก๊สผสมเลเซอร์ Kr-F2		/	5 Kr+ 1~0.2 F2
แก๊สเลเซอร์แบบปิดสนิท	18.5N2+ 3Xe+ 2.5CO	/
Excimer laser	25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 1F2	Ar
		25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 5F2	He
		25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 0.2F2	He
		25.8Ne+ 9.8Ar+ 0.004N2+ 5HCl	ກ

แก๊สเอ็กไซเมอร์สำหรับรุ่นย่อยบางรุ่น
ຍີ່ຫໍ້	ຄວາມຍາວຂອງຄື້ນ	ຫມໍ້ໄຟ	ลูกล็อค
COHERENT	248nm	10 L	DIN 8/JIS
B & L	193nm	20 L/50 L	DIN 8/DIN 14
Zeiss	193nm	10L/20 L	DIN 8
VISX	193nm	16 L	CGA 679
NIDEK	193nm	16 L	CGA 679
LASERSIGHT	193nm	10 L	CGA 679
Alcon	193nm	16 L	CGA 679
SCHWIND	193nm	20 ໄຫ	DIN 8/DIN 14
SUMMIT	193nm	16 L	CGA 679

ສາຍການອ້ອມແລະວັດຖຸທີ່ມີຊີວະພາບຈຳເປັນຮັບຄວາມສົງສິດ UV ທີ່ອອກຈາກเลเซີ ArF. เลเซີນີ້ແຂກສາຍພັນໂມເລກຳຂອງເນື້ອໄປ, ເຊິ່ງຫຼັງມາຈະຕິດຕາມໃນອາກາດຜ່ານການແຂກໃນລີນທີ່ຄວບຄຸມ, ກັບການເສີມ. ຕໍ່ໄປ, เลเซີ ArF ໄດ້ມີຄວາມສາມາດທີ່ຈະລົບລົ້ມເສີມຂອງວັດຖຸທີ່ຢູ່ເທິງໂຕໂນ້າມາຍໂດຍບໍ່ມີການຮ້ອນ. ອັນນີ້ເປັນຄຸນຫຼາຍທີ່ເຮັດໃຫ້莱 F excimer lasers ໄດ້ຖືກໃຊ້ຫຼາຍໃນເຄື່ອງຝ່າຍພຸດທະລິທີ້ທີ່ມີຄວາມແນວໆສູງ, ອັນເປັນເทັກນົອລົກທີ່ສຳຄັນສຳລັບການຜະລິດ microelectronic chips ສຳລັບການເຂົ້າໃນ opthalmological application. ອື່ນໆການໃຊ້莱 F laser ໄດ້ມີການຜະລິດ circuit ຂອງ semiconductors. ມັນຍັງຊ່ວຍໃນການວິເຄາະ in situ ຂອງໜົວ່າ mineral samples ບໍ່ໆກັບການແຂກ.

ກ່ຽວກັບພວກເຮົາ

Excimer Laser Gas KrF 248nm TUIMIX-CTMN-KrF-V2.0 Mixture Gas F2,Krypton,Helium,Neon details

Brand: AGEM

AGEM ຕື້ມາການແຈ້ງເຕັອນ Excimer Laser Gas KrF 248nm TUIMIX-CTMN-KrF-V2.0 Mixture Gas F2,Krypton,Helium,Neon, ແລະສີ່ສ່ວນນີ້ແມ່ນຄວາມສູບສີ້ນທີ່ຈະປ່ຽນແປງເทິກໂນໂລຊີ້ lasers. ສີ່ສ່ວນຂອງ flourine (F2), krypton, helium, ແລະ neon ກາຍເປັນຄວາມຖືກຕ້ອງແລະຄວາມຖືກຕ້ອງທີ່ບໍ່ມີໃນຫຼາຍການລຳດັບ.

ໃນການໃຊ້ Excimer Laser Gas KrF 248nm TUIMIX-CTMN-KrF-V2.0 Mixture Gas F2,Krypton,Helium,Neon, KrF 248nm excimer laser ໄດ້ຜະເພີດ chùm ຜູ້ທີ່ສາມາດປຸ້ມແລະ ablate ການສຳເລັດກັບຄວາມຖືກຕ້ອງສູງ. TUIMIX-CTMN-KrF-V2.0 ບໍ່ໄດ້ເພີ່ມຄວາມສະເພາະ, ມັນຍັງເພີ່ມຄວາມສະເພາະທີ່ລົງຕື່ມ ແລະ ປ້ອມປາກ.

ໜຶງໃນຫົວຂໍ້ທີ່ເປັນຄຸນສຸດທີ່ແມ່ນກະລຸນາກັບ Excimer Laser Gas KrF 248nm TUIMIX-CTMN-KrF-V2.0 Mixture Gas F2,Krypton,Helium,Neon ແມ່ນອິດສະຫຼະພາບຂອງມັນ. ມันສາມາດຖືກນຳໃຊ້ໄດ້ສຳລັບການເລືອກຕື່ມຂອງຄະແນນແລະອາ Thai ເປັນພິเศດຈາກ microelectronics ແລະ semiconductors ເຖິງອຸປະກອນທີ່ເປັນພິເສດ biotechnology research. ຄວາມແນວໜ້າຂອງມັນແມ່ນສູງແລະຄຸນແມ່ນຕ່ຳ, ເຮັດໃຫ້ມັນສົມບູນສຳລັບວັດຖຸທີ່ຍາວແລະຮູບແບບທີ່ສັບສົນ, ເຮັດໃຫ້ແນວທີ່ຕ້ອງການຖືກເອົາໄປທຸກຄັ້ງ.

ພະນັກງານເປັນສ່ວນຫນ້າທີ່ມີຄວາມສຳຄັນແລະ ມີຜົນປະໂຫຍດຕໍ່ AGEM Excimer Laser Gas KrF 248nm TUIMIX-CTMN-KrF-V2.0 Mixture Gas F2,Krypton,Helium,Neon ເປັນສ່ວນປະສົບປະຊານທີ່ຖືກອອກແບບໃຫ້ສູງສຸດ ເພື່ອຮັກສາຄວາມສະເທິງແລະຄວາມສັງຄົມ. ນີ້ແມ່ນຄວາມສົມບູນທີ່ມີຄວາມສະເທິງ ແລະ ຕໍ່ໄປການຂັດແຍ່ງ ເພື່ອໃຫ້ມີຄວາມສຳເລັດສູງສຸດ. ອີງຕາມການຈັດການ ເພື່ອຫຼຸດຄວາມສັງຄົມ ແລະ ຄວາມສັງຄົມທີ່ສາມາດເປັນອັນຕະລາຍໄດ້ ເພື່ອໃຫ້ມີຄວາມສົມບູນທີ່ເປັນເພື່ອງທີ່ເປັນເພື່ອງ.

ລູກຄ້າທີ່ເລືອກ_excimer laser gas krf 248nm tuimix-ctmn-krf-v2.0 mixture gas f2,krypton,helium,neon_ ຈະໄດ້ຮັບການສະໜັບສະໜູນທີ່ດີທີ່ສຸດຈາກ AGEM. ພວກເຮົາມີພະນັກງານຊ່ຽວຊານທີ່ເປັນເຈົ້າຂອງ ເພື່ອຕອບສະຫນັບສະຫນູນ ແລະ ສະໜັບສະໜູນ ເພື່ອໃຫ້ສິນຄ້າມີຄວາມສຳເລັດສູງສຸດ. ພວກເຮົາຍັງມີລາຄາທີ່ແຂ່ງແຂ້ງ ແລະ ການສົ່ງທີ່ສົມບູນ ເພື່ອສົ່ງຄຳສັ່ງທີ່ສົມບູນ.