EN
AR
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
TL
ID
SK
SL
UK
VI
TH
TR
AF
MS
SW
GA
CY
BE
KA
LO
LA
MI
MR
MN
NE
UZ
उच्च तंत्रज्ञान अनुप्रयोगांसाठी आणि इलेक्ट्रॉनिक्स उत्पादनासाठी 99.999% उच्च शुद्धतेची 10 लिटर, 8 लिटर C4F6 हेक्साफ्लुओरोब्युटाडायिन वायू पुरवठा
- आढावा
- चौकशी
- संबंधित उत्पादने
उत्पादनाबद्दल
ठळक करणे
सेमीकंडक्टर निर्मितीसाठी इलेक्ट्रॉनिक ग्रेड शुद्धता: आमचे C4F6 अत्यंत उच्च शुद्धतेच्या ग्रेडमध्ये 5N (99.999 टक्के) पर्यंत उपलब्ध आहे, ज्यामध्ये ऑक्सिजन (O2), आर्द्रता (H2O) आणि हायड्रोकार्बन्स यांसारख्या अत्यंत कमी अशुद्धी प्रमाणांचा समावेश आहे; यामुळे उच्च-पातळीच्या सेमीकंडक्टर उपकरण निर्मितीसाठी आवश्यक असलेली उत्कृष्ट प्लाझमा स्थिरता, सुसंगत एट्चिंग कामगिरी आणि उच्च प्रक्रिया पुनरावृत्ती क्षमता सुनिश्चित होते. उन्नत प्लाझमा एट्चिंग अनुप्रयोगांसाठी ऑप्टिमाइज्ड: C4F6 हे विशेषतः उच्च-परिशुद्धतेच्या प्लाझमा एट्चिंग प्रक्रियांसाठी डिझाइन केले गेले आहे, ज्यामध्ये डायइलेक्ट्रिक एट्चिंग, ऑक्साइड लेयर एट्चिंग, कमी k साहित्याचे पॅटर्निंग आणि क्रिटिकल डायमेन्शन नियंत्रण यांचा समावेश आहे. त्याची उत्कृष्ट निवडकता, अनिसोट्रॉपिक एट्चिंग क्षमता आणि प्रोफाइलची सुधारित अचूकता CF4, C2F6 आणि C3F8 सारख्या पारंपारिक फ्लुओरोकार्बन वायूंच्या तुलनेत अधिक आहे, ज्यामुळे ते उन्नत लॉजिक, मेमरी आणि MEMS निर्मितीसाठी आदर्श आहे. कमी ग्लोबल वॉर्मिंग पोटेंशियल (GWP) पर्याय: पारंपारिक पर्फ्लुओरोकार्बन वायूंच्या तुलनेत, C4F6 हे उच्च एट्चिंग कार्यक्षमता, कमी वायू वापर आणि कमी पर्यावरणीय परिणाम प्रदान करते, ज्यामुळे सेमीकंडक्टर निर्मात्यांना उच्च उत्पादन कार्यक्षमता आणि उत्पादन दर राखूनही स्थायित्वाचे ध्येय साध्य करण्यास मदत होते. कठोर अशुद्धी आणि आर्द्रता नियंत्रण: आम्ही उन्नत वायू शुद्धीकरण प्रणाली, अत्यंत अचूक विश्लेषणात्मक साधने आणि कठोर गुणवत्ता नियंत्रण प्रोटोकॉल्सचा वापर करून आर्द्रता (H2O) ≤ 1 ppm, ऑक्सिजन (O2) ≤ 1 ppm आणि एकूण हायड्रोकार्बन्स ≤ 1 ppm यांची हमी देतो, ज्यामुळे वेफर दूषण, प्लाझमा अस्थिरता आणि प्रक्रिया दोषांचे प्रभावीपणे टाळणे शक्य होते आणि सुसंगत आणि विश्वसनीय सेमीकंडक्टर प्रक्रिया कार्यक्षमता सुनिश्चित होते. सेमीकंडक्टर ग्रेड सतह उपचारासह प्रमाणित सिलिंडर्स: आमचे C4F6 मानक 47L, 10L आणि सानुकूलित सिलिंडर आकारांमध्ये पुरवले जाते, जे ISO 9809, DOT 3AA आणि TPED EN मानकांच्या अनुरूप निर्मित केले जातात; त्यामध्ये आंतरिक इलेक्ट्रोपॉलिशिंग आणि पॅसिव्हेशन उपचाराचा पर्यायी वापर करून कण निर्मिती कमी करणे, वायू दूषण टाळणे आणि साठवणूक आणि वापरादरम्यान अत्यंत उच्च वायू शुद्धता राखणे सुनिश्चित केले जाते.
आमच्याबद्दल
एजीईएम ही कंपनी २००८ मध्ये एक बहुराष्ट्रीय व्यावसायिक निर्माता आणि वायू संबंधित उपकरणांची सेवा पुरवठा करणारी कंपनी म्हणून स्थापित करण्यात आली, ज्याचे मुख्यालय तायवान, चीन येथे आहे. १६ वर्षांच्या समर्पित उद्योग तज्ञतेसह, तिचा जागतिक प्रभाव, उत्कृष्ट उत्पादन कौशल्य आणि संपूर्ण उत्पादन पोर्टफोलिओ यामुळे वायू उपकरण क्षेत्रातील एक मानक कंपनी म्हणून तिची स्थिती दृढ करण्यात आली आहे. कंपनी जागतिकीकरणाच्या विकास धोरणाचे पालन करते आणि चीनच्या मुख्य भूभागात, तायवान, चीन आणि भारतात आधुनिक उत्पादन केंद्रे स्थापित करते, ज्यामुळे आशिया आणि जगभर पसरलेले उत्पादन आणि सेवा नेटवर्क तयार होते. प्रत्येक केंद्रात बुद्धिमत्तेने सुसज्ज उत्पादन लाइन्स आणि अत्यंत अचूक चाचणी उपकरणे उपलब्ध आहेत, ज्यामुळे क сыच्या कच्च्या साहित्याच्या प्रक्रियेपासून ते अंतिम उत्पादनाच्या वितरणापर्यंत पूर्ण प्रक्रियेवर नियंत्रण ठेवता येते. वार्षिक उत्पादन क्षमता नेहमीच उद्योगातील अग्रगण्य कंपन्यांमध्ये वर्गीकृत केली जाते, ज्यामुळे कंपनी जागतिक ग्राहकांच्या विविध गरजा पूर्ण करण्यासाठी लवकर प्रतिक्रिया देऊ शकते. मुख्य व्यवसाय वायू-संबंधित मूलभूत उपकरणांवर केंद्रित आहे, ज्यामध्ये विविध औद्योगिक वायू, विशिष्ट वायू व्हाल्व्ह, उच्च-दाब सिलिंडर, हलके अॅल्युमिनियम सिलिंडर आणि उच्च-अचूक दाब कमी करणारे उपकरणे यासारख्या संपूर्ण श्रेणीची उत्पादने समाविष्ट आहेत. ही उत्पादने रसायनशास्त्र, इलेक्ट्रॉनिक्स, आरोग्य सेवा आणि ऊर्जा यासारख्या महत्त्वाच्या क्षेत्रांमध्ये व्यापकपणे वापरली जातात. खोलवरच्या तांत्रिक तज्ञतेचा वापर करून, या उत्पादनांना आयएसओ ९००१ गुणवत्ता व्यवस्थापन प्रणाली प्रमाणन आणि उच्च-दाब उपकरणांसाठी अॅस्मे (ASME) प्रमाणन, युरोपियन युनियन बाजारात प्रवेशासाठी सीई-पीईडी (CE-PED) प्रमाणन आणि जागतिक वापरासाठी आयईसीएक्स (IECEx) विस्फोटरोधक प्रमाणन यासारख्या अनेक प्रामाणिक आंतरराष्ट्रीय प्रमाणनांची मान्यता मिळाली आहे. सीलिंग कार्यक्षमता, दाब प्रतिरोधकता आणि सुरक्षा संरक्षण यासारख्या मुख्य कार्यक्षमता निर्देशांकांचे प्रदर्शन आंतरराष्ट्रीयपणे उच्चस्तरीय आहे. कंपनी तांत्रिक नवाचाराला आपल्या मुख्य स्पर्धात्मक शक्ती म्हणून नेहमीच प्राधान्य देते, आणि एक आंतरराष्ट्रीय शोध आणि विकास (R&D) संघ गोळा करून तांत्रिक उत्क्रांतीवर सातत्याने गुंतवणूक करते.
FAQs
आपण C4F6 च्या कोणत्या शुद्धता ग्रेड्सची ऑफर करता?
आम्ही सेमिकंडक्टर ग्रेड C4F6 ऑफर करतो, ज्यामध्ये 4N (99.99 टक्के), 4.5N (99.995 टक्के) आणि 5N (99.999 टक्के) यांचा समावेश आहे. उच्च शुद्धता ग्रेड्स आवश्यकतेनुसार उपलब्ध आहेत.
C4F6 च्या सामान्य अनुप्रयोगांची यादी काय आहे?
C4F6 मुख्यत्वे सेमिकंडक्टर प्लाझमा एट्चिंग, डायइलेक्ट्रिक लेयर एट्चिंग, ऑक्साइड एट्चिंग प्रक्रिया, कमी k डायइलेक्ट्रिक एट्चिंग, MEMS निर्मिती आणि प्रगत इंटिग्रेटेड सर्किट निर्मितीमध्ये वापरले जाते.
उपलब्ध सिलिंडर आकार कोणते आहेत?
मानक पॅकेजिंगमध्ये 47L सिलिंडर, 10L सिलिंडर, 8L सिलिंडर आणि आवश्यकतेनुसार सानुकूलित सिलिंडर्सचा समावेश आहे. सेमिकंडक्टर अनुप्रयोगांसाठी सिलिंडर आतील इलेक्ट्रोपॉलिशिंग उपलब्ध आहे.
सामान्य भरण्याचा दाब आणि भरण्याचे वजन किती असते?
सामान्य भरण्याचे पॅरामीटर्समध्ये 13 ते 15 MPa पर्यंतचा भरण्याचा दाब आणि 47L सिलिंडरमध्ये सुमारे 20 ते 25 kg भरण्याचे वजन यांचा समावेश आहे. अचूक भरण्याचे वजन शुद्धता ग्रेड आणि ग्राहकाच्या आवश्यकतांवर अवलंबून असते.
C4F6 सिलिंडर्ससाठी कोणत्या प्रकारचे वॉल्व वापरले जातात?
सामान्य वॉल्व प्रकारांमध्ये CGA 716, DISS 716 आणि सेमिकंडक्टर ग्रेडच्या वॉल्व्ह्जचा समावेश असतो. वॉल्व निवड क्षेत्रीय मानकांनुसार सानुकूलित केली जाऊ शकते.
तुम्ही वायूची शुद्धता आणि स्थिरता कशी सुनिश्चित करता?
आम्ही उन्नत वायू शुद्धीकरण प्रणाली, आर्द्रता आणि ऑक्सिजन काढण्याची तंत्रज्ञान, वायू क्रोमॅटोग्राफी (GC) विश्लेषण आणि प्रत्येक सिलिंडरसह प्रदान केलेला विश्लेषणाचा प्रमाणपत्र (COA) याद्वारे गुणवत्ता सुनिश्चित करतो.
वितरणासाठी आघाडीचा कालावधी किती आहे?
सामान्यतः जमा रक्कम मिळाल्यानंतर 15 ते 25 दिवसांचा वितरण कालावधी असतो. स्टॉक उपलब्धता आणि सिलिंडर तयारीवर अवलंबून वेगवान वितरण उपलब्ध आहे.
तुमचे सिलिंडर्स कोणत्या प्रमाणपत्रांच्या अंतर्गत येतात?
आमचे सिलिंडर्स ISO 9809, DOT 3AA, TPED आणि EN मानकांच्या अंतर्गत येतात. तिसऱ्या पक्षाची तपासणी आवश्यकतेनुसार उपलब्ध आहे.
