EN
AR
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
TL
ID
SK
SL
UK
VI
TH
TR
AF
MS
SW
GA
CY
BE
KA
LO
LA
MI
MR
MN
NE
UZ
- Gambaran Keseluruhan
- Siasatan
- Produk Berkaitan
Maklumat produk:
Karbon tetrafluorida adalah pendingin kriogenik yang relatif iners dalam keadaan normal, pengganti oksigen, dan juga digunakan dalam pelbagai proses pengecaman wafer.
CF4 adalah gas etching plasma yang paling meluas digunakan dalam industri mikroelektronik pada masa kini. Ia boleh digunakan secara meluas dalam pemotongan bahan filem nipis seperti silikon, oksida silikon, nitrida silikon, kaca fosforasilika dan wolfram, serta dalam pembersihan permukaan peranti elektronik dan sel suria. Ia juga digunakan secara meluas dalam pengeluaran teknologi laser, penyekatan fasa gas, pendinginan suhu rendah, ejen pengesan kebocoran, mengawal sikap roket angkasa, dan sebagai ejen pemusnahan dalam pengeluaran litar bergetar.
Kerana kestabilan kimia karbon tetrafluorida, karbon tetrafluorida boleh digunakan dalam pengecam logam dan industri plastik
