EN
AR
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
TL
ID
SK
SL
UK
VI
TH
TR
AF
MS
SW
GA
CY
BE
KA
LO
LA
MI
MR
MN
NE
UZ
इलेक्ट्रॉनिकहरूको लागि उच्च शुद्धता गेस मोनोफ्लुओरोमेथेन 99.999% FC41 UN 2454 Halocarbon 41 मेथिल फ्लुओराइड CH3F
- अवलोकन
- सोधपुछ
- सम्बन्धित उत्पादनहरू
इलेक्ट्रॉनिकहरूको लागि उच्च शुद्धता गेस मोनोफ्लुओरोमेथेन 99.999% FC41 UN 2454 Halocarbon 41 मेथिल फ्लुओराइड CH3F
AGEM उच्च-शुद्धता मोनोफ्लोरोमेथेन गैस (CH3F) उत्पादन र विक्रय गर्दछ, जसले सेमीकंडक चिपहरूको निर्माण प्रक्रियामा प्रयोग गरिन्छ।
फ्लोरोमेथेन, मेथिल फ्लोराइड, Freon 41, हैलोकार्बन-41 र HFC-41 को रूपमा पनि जानिन्छ, यो साधारण तापमा र दबावमा अवाष्पीय गैस हो। यसलाई कार्बन, हाइड्रोजन र फ्लोरीनको मिश्रणभित्तिको हो। नाम यस बातमा आधारित छ कि यो मेथेन (CH4) हो, जसमा एक हाइड्रोजन परमाणुको बदले फ्लोरीन परमाणु छ। यसलाई सेमीकंडक निर्माण प्रक्रियामा प्लाज्मा एट्चिङ्ग रिएक्टरमा एट्चिङ्ग गैसके रूपमा प्रयोग गरिन्छ।
फ्लोरोमेथेन, अधिक जान्तले मेथाइल फ्लोराइड (MeF) वा हैलोकार्बन 41 एक अविषाक्त द्रवीभूत कस्तो गैस छ, जसले सेमीकंडक र इलेक्ट्रॉनिक उत्पादहरूको निर्माणमा प्रयोग गरिन्छ। RF क्षेत्रको अस्तित्वमा यो फ्लोराइन आयनहरूमा विभाजित भएको छ, जसले सिलिकन चाको फिल्महरूको निर्वाची खुदाइ गर्दछ।
आवेदन :सीएच३एफ सेमीकंडक चिपहरूको निर्माण प्रक्रियामा खुदाइ द्वारा नाइट्राइड फिल्मको माइक्रोमशीनिङ्ग गर्न प्रयोग गरिने एक विशेष गैस हो। CH3F मुख्यतः NAND फ्लैश र DRAM समेत सेमीकंडक स्मृति चिपहरूको निर्माणमा प्रयोग गरिन्छ, जसलाई माइक्रोमशीनिङ्ग प्रौद्योगिकालागि आवश्यक छ। यसको खुदाइ निर्वाचनिता अर्का गैसहरूभन्दा बढी छ, त्यसैले CH3F 3D NAND फ्लैशको बहु-लेयर संरचनाको माइक्रोमशीनिङ्ग गर्न उपयुक्त छ। अनेक लाइनहरूले 3D NAND फ्लैश निर्माण गर्न सुरु गरेका छन्, त्यसैले यसको माग अहिले बढ्दै गइरहेको छ।
