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Tipo de Cilindro: 2,2 L, 40 L, 47 L, 50 L, 118 L, 926 L, Tanque ISO
Campo de aplicação:
Produção de Polissilício
Crescimento Epitaxial
Síntese de Silano
Síntese de Silano
Triclorossilano SiHCl3 de Alta Pureza, 99,99 %, para produção de silício solar e semicondutores
- Visão Geral
- Consulta
- Produtos Relacionados
Descrição dos Produtos
Gás SiHCl3
O triclorossilano (HSiCl3) é um líquido incolor e volátil, com odor forte e irritante. É altamente reativo, especialmente com
água e ar úmido, liberando gás cloreto de hidrogênio. A triclorossilana é utilizada principalmente na produção de silício de alta pureza para as indústrias de semicondutores e energia solar. Ela atua como um intermediário essencial na fabricação de polissilício e de diversos compostos organossilício.
Gás Triclorossilana / Gás SiHCl₃
Área de aplicação
Produção de Polissilício
Este é seu uso principal. Por meio de purificação e reações químicas, é empregada na produção de polissilício de alta pureza, que constitui o material básico fundamental para a fabricação de células solares e chips semicondutores.
Crescimento Epitaxial
Na fabricação de semicondutores, ela serve como gás fonte de silício para o crescimento de uma película de silício monocristalino de alta qualidade (camada epitaxial) sobre a superfície do wafers, melhorando assim o desempenho dos dispositivos.
Síntese de Silano
Atua como um intermediário crucial para a síntese adicional de gás silano (SiH₄) de maior pureza, também amplamente utilizado nas indústrias de semicondutores e fotovoltaica.
Especificações
MOQ： 1 Pçs
Tipo de Cilindro: 2,2 L, 40 L, 47 L, 50 L, 118 L, 926 L, Tanque ISO
Tipo de Cilindro: 2,2 L, 40 L, 47 L, 50 L, 118 L, 926 L, Tanque ISO
O que podemos prometer a você:
1. Cilindros de gás de alta qualidade e segurança
2. Melhor preço do mercado
3. Entrega rápida (3–4 semanas)
2. Melhor preço do mercado
3. Entrega rápida (3–4 semanas)
Produtos Principais:
1. Produtos gasosos: Oxigênio ultra-alto grau (UHP), Argônio, Hélio, Monóxido de Carbono (CO), Metano, Acetileno, Oxigênio Líquido (LO2), Nitrogênio Líquido (LN2), Dióxido de Carbono Líquido (LCO2), etc.
2. Todos os tipos de cilindros de gás de alta pressão e cilindros de gás soldados:
Cilindro de Oxigênio (cilindros de gás conforme normas GB 5099 / ISO 9809-3 / DOT / EN)
3. Recipientes para nitrogênio líquido: todos os tipos de recipientes para nitrogênio líquido, de 2 L a 50 L
4. Tanque criogênico Dewar: capacidade de 175 L, 195 L, 210 L e 495 L
5. Tanque de armazenamento de líquidos: 5 m³, 10 m³, 20 m³, 30 m³, 50 m³, 100 m³, 200 m³, etc.
6. Equipamentos para gás: vaporizador, coletor (manifold), bomba de enchimento de gás, etc.
2. Todos os tipos de cilindros de gás de alta pressão e cilindros de gás soldados:
Cilindro de Oxigênio (cilindros de gás conforme normas GB 5099 / ISO 9809-3 / DOT / EN)
3. Recipientes para nitrogênio líquido: todos os tipos de recipientes para nitrogênio líquido, de 2 L a 50 L
4. Tanque criogênico Dewar: capacidade de 175 L, 195 L, 210 L e 495 L
5. Tanque de armazenamento de líquidos: 5 m³, 10 m³, 20 m³, 30 m³, 50 m³, 100 m³, 200 m³, etc.
6. Equipamentos para gás: vaporizador, coletor (manifold), bomba de enchimento de gás, etc.
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