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Fornecimento de gás hexafluorobutadieno C4F6 de alta pureza (99,999 %), 10 L e 8 L, para aplicações de alta tecnologia e fabricação eletrônica
- Visão Geral
- Consulta
- Produtos Relacionados
Sobre o produto
Destaque
Pureza de Grau Eletrônico para Fabricação de Semicondutores: O nosso C4F6 está disponível em graus de pureza ultraelevada até 5N (99,999 %), com níveis extremamente baixos de impurezas, incluindo oxigênio (O₂), umidade (H₂O) e hidrocarbonetos, garantindo estabilidade superior do plasma, desempenho consistente de gravação e alta repetibilidade do processo, requisitos essenciais para a fabricação avançada de dispositivos semicondutores. Otimizado para Aplicações Avançadas de Gravação por Plasma: O C4F6 foi projetado especificamente para processos de gravação por plasma de alta precisão, incluindo gravação dielétrica, gravação de camadas de óxido, padronização de materiais de baixa constante dielétrica (low-k) e controle de dimensões críticas, oferecendo seletividade superior, capacidade de gravação anisotrópica e precisão aprimorada de perfil em comparação com gases fluorocarbonados convencionais, como CF₄, C₂F₆ e C₃F₈, tornando-o ideal para a fabricação avançada de circuitos lógicos, memórias e sistemas microeletromecânicos (MEMS). Alternativa com Baixo Potencial de Aquecimento Global (GWP): Em comparação com gases perfluorocarbonados tradicionais, o C4F6 proporciona maior eficiência de gravação, menor consumo de gás e menor impacto ambiental, auxiliando os fabricantes de semicondutores a atingirem suas metas de sustentabilidade, sem comprometer o desempenho produtivo e o rendimento. Controle Rigoroso de Impurezas e Umidade: Empregamos sistemas avançados de purificação de gás, instrumentos analíticos de precisão e protocolos rigorosos de controle de qualidade para assegurar: umidade (H₂O) ≤ 1 ppm, oxigênio (O₂) ≤ 1 ppm e hidrocarbonetos totais ≤ 1 ppm, prevenindo eficazmente contaminação de wafers, instabilidade do plasma e defeitos de processo, garantindo desempenho consistente e confiável no processamento de semicondutores. Cilindros Certificados com Tratamento de Superfície de Grau Semicondutor: O nosso C4F6 é fornecido em cilindros padrão de 47 L e 10 L, bem como em tamanhos personalizados, fabricados em conformidade com as normas ISO 9809, DOT 3AA e TPED EN, com opção de eletropolimento interno e passivação para minimizar a geração de partículas, prevenir contaminação do gás e manter a pureza ultraelevada durante armazenamento e uso.
Sobre Nós
A AGEM foi fundada em 2008 como fabricante profissional multinacional e prestadora de serviços de equipamentos para gases, com sede em Taiwan, China. Com 16 anos de experiência especializada no setor, sua presença global, excelência na manufatura e portfólio abrangente de produtos consolidaram sua posição como empresa referência no setor de equipamentos para gases. A empresa adota uma estratégia de desenvolvimento globalizado, estabelecendo bases modernas de produção no continente chinês, em Taiwan, China, e na Índia, formando uma rede de produção e serviços que abrange a Ásia e se estende globalmente. Cada base é equipada com linhas de produção inteligentes e equipamentos de testes de alta precisão, permitindo o controle de todo o processo — desde o processamento das matérias-primas até a entrega do produto acabado. Com capacidade anual de produção constantemente entre as líderes do setor, a empresa consegue responder rapidamente às diversas necessidades de seus clientes globais. O negócio central concentra-se em equipamentos nucleares relacionados a gases, abrangendo uma gama completa de produtos, incluindo diversos gases industriais, válvulas especiais para gases, cilindros de alta pressão, cilindros leves de alumínio e redutores de pressão de alta precisão. Esses produtos são amplamente aplicados em setores críticos, tais como química, eletrônica, saúde e energia. Contando com profundo conhecimento técnico, os produtos obtiveram a certificação do Sistema de Gestão da Qualidade ISO 9001 e múltiplas certificações internacionais reconhecidas, incluindo a certificação ASME para equipamentos de alta pressão, a certificação CE-PED para acesso ao mercado da União Europeia e a certificação IECEx para equipamentos à prova de explosão, válida para aplicação global. Indicadores-chave de desempenho, como desempenho de vedação, resistência à pressão e proteção de segurança, atingiram níveis internacionalmente avançados. A empresa prioriza consistentemente a inovação tecnológica como seu principal diferencial competitivo, reunindo uma equipe internacional de P&D e investindo continuamente em avanços tecnológicos.
Perguntas frequentes
Quais graus de pureza de C4F6 vocês oferecem
Oferecemos C4F6 grau semicondutor, incluindo 4N (99,99 por cento), 4,5N (99,995 por cento) e 5N (99,999 por cento). Graus de pureza superiores estão disponíveis mediante solicitação
Quais são as aplicações típicas do C4F6
O C4F6 é utilizado principalmente em processos de gravação a plasma em semicondutores, gravação de camadas dielétricas, gravação de óxidos, gravação de dielétricos de baixa constante dielétrica (low-k), fabricação de sistemas microeletromecânicos (MEMS) e fabricação avançada de circuitos integrados
Quais tamanhos de cilindros estão disponíveis
A embalagem padrão inclui cilindros de 47 L, 10 L, 8 L e cilindros personalizados mediante solicitação. O polimento eletrolítico interno do cilindro está disponível para aplicações em semicondutores
Qual é a pressão típica de enchimento e o peso típico de enchimento
Os parâmetros típicos de enchimento incluem pressão de enchimento de até 13 a 15 MPa e peso de enchimento aproximado de 20 a 25 kg em cilindro de 47 L. O peso exato de enchimento depende do grau de pureza e dos requisitos do cliente
Qual tipo de válvula é utilizada nos cilindros de C4F6
Os tipos comuns de válvulas incluem CGA 716, DISS 716 e válvulas personalizadas de grau semicondutor. A seleção de válvulas pode ser personalizada com base nas normas regionais
Como você garante a pureza e a estabilidade do gás?
Garantimos a qualidade por meio de sistemas avançados de purificação de gás, tecnologia de remoção de umidade e oxigênio, análise por cromatografia gasosa (CG) e Certificado de Análise (COA) fornecido com cada cilindro
Qual é o prazo de entrega?
O prazo típico de entrega é de 15 a 25 dias após o recebimento do depósito. Entregas mais rápidas estão disponíveis, dependendo da disponibilidade em estoque e da preparação dos cilindros
Com quais certificações os seus cilindros estão em conformidade?
Nossos cilindros estão em conformidade com as normas ISO 9809, DOT 3AA, TPED e EN. Inspeção por terceiros está disponível mediante solicitação.
