EN
AR
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
TL
ID
SK
SL
UK
VI
TH
TR
AF
MS
SW
GA
CY
BE
KA
LO
LA
MI
MR
MN
NE
UZ
Alimentare cu gaz hexafluorobutadienă C4F6 de înaltă puritate (99,999 %), în volume de 10 L și 8 L, pentru aplicații de înaltă tehnologie și fabricarea produselor electronice
- Prezentare generală
- Interogare
- Produse conexe
Despre produs
Subliniază
Puritate de calitate electronică pentru fabricarea semiconductorilor: C4F6-ul nostru este disponibil în grade de puritate extrem de ridicată, până la 5N (99,999 %), cu niveluri extrem de scăzute de impurități, inclusiv oxigen (O₂), umiditate (H₂O) și hidrocarburi, asigurând o stabilitate superioară a plasmei, o performanță constantă de gravare și o repetabilitate ridicată a procesului, necesare pentru fabricarea avansată a dispozitivelor semiconductoare. Optimizat pentru aplicații avansate de gravare cu plasmă: C4F6 este conceput în mod special pentru procese de gravare cu plasmă de înaltă precizie, inclusiv gravarea dielectricilor, gravarea stratului de oxid, modelarea materialelor cu constantă dielectrică scăzută (low-k) și controlul dimensiunilor critice, oferind o selectivitate superioară, capacitate de gravare anizotropică și o precizie îmbunătățită a profilului comparativ cu gazele fluorocarbonice convenționale, cum ar fi CF₄, C₂F₆ și C₃F₈, făcându-l ideal pentru fabricarea avansată a circuitelor logice, a memoriei și a sistemelor MEMS. Alternativă cu potențial redus de încălzire globală (GWP): Comparativ cu gazele perfluorocarbonice tradiționale, C4F6 oferă o eficiență superioară de gravare, o consum mai scăzut de gaz și un impact ambiental redus, ajutând producătorii de semiconductori să își atingă obiectivele de sustenabilitate, păstrând în același timp o performanță ridicată a producției și un randament crescut. Control strict al impurităților și al umidității: Utilizăm sisteme avansate de purificare a gazelor, instrumente analitice de precizie și protocoale stricte de control al calității pentru a asigura: umiditate (H₂O) ≤ 1 ppm, oxigen (O₂) ≤ 1 ppm și hidrocarburi totale ≤ 1 ppm, prevenind eficient contaminarea wafere-urilor, instabilitatea plasmei și defecțiunile de proces, garantând astfel o performanță constantă și fiabilă a procesării semiconductorilor. Butelii certificate cu tratament de suprafață de calitate semiconductor: C4F6-ul nostru este livrat în butelii standard de 47 L, 10 L și dimensiuni personalizate, fabricate în conformitate cu standardele ISO 9809, DOT 3AA și TPED EN, cu opțiunea unui tratament intern de electropolizare și pasivare pentru a minimiza generarea de particule, a preveni contaminarea gazului și a menține puritatea ultra-ridicată a gazului în timpul stocării și utilizării.
Despre Noi
AGEM a fost înființată în 2008 ca producător și furnizor de servicii profesionist, de nivel multinational, de echipamente pentru gaze, cu sediul central în Taiwan, China. Cu 16 ani de experiență specializată în domeniu, prezența sa globală, arta superioară a fabricației și portofoliul complet de produse i-au consolidat statutul de întreprindere de referință în sectorul echipamentelor pentru gaze. Compania își urmărește o strategie de dezvoltare globală, înființând baze moderne de producție în China continentală, Taiwan, China și India, formând astfel o rețea de producție și servicii care acoperă Asia și se extinde la nivel global. Fiecare bază este dotată cu linii de producție inteligente și echipamente de testare de precizie, permițând un control pe întregul proces, de la prelucrarea materiilor prime până la livrarea produselor finite. Având o capacitate anuală de producție care se menține constant printre liderii din industrie, compania poate răspunde rapid nevoilor diverse ale clienților săi globali. Activitatea de bază se concentrează pe echipamentele centrale legate de gaze, cuprinzând un spectru complet de produse, inclusiv diverse gaze industriale, supape speciale pentru gaze, butelii de înaltă presiune, butelii ușoare din aluminiu și reducători de presiune de înaltă precizie. Aceste produse sunt utilizate pe scară largă în sectoare esențiale, cum ar fi cel chimic, electronic, medical și energetic. Beneficiind de o expertiză tehnică profundă, produsele au obținut certificarea ISO9001 privind Sistemul de Management al Calității și mai multe certificate internaționale de autoritate, inclusiv certificarea ASME pentru echipamente de înaltă presiune, certificarea CE-PED pentru accesul pe piața UE și certificarea IECEx pentru echipamente antiexplozive, valabilă la nivel global. Indicatorii cheie de performanță, cum ar fi performanța de etanșare, rezistența la presiune și protecția în domeniul siguranței, au atins niveluri internațional avansate. Compania acordă în mod constant prioritate inovației tehnologice ca principală forță competitivă, constituind o echipă internațională de cercetare și dezvoltare și investind continuu în progrese tehnologice.
Întrebări frecvente
Ce grade de puritate ale C4F6 oferiți?
Oferim C4F6 de calitate semiconductor, inclusiv 4N (99,99 %), 4,5N (99,995 %) și 5N (99,999 %). Grade superioare de puritate sunt disponibile la cerere.
Care sunt aplicațiile tipice ale C4F6?
C4F6 este utilizat în principal în gravarea prin plasmă a semiconductorilor, gravarea stratului dielectric, gravarea oxidului, gravarea dielectricilor cu constantă dielectrică scăzută (low-k), fabricarea sistemelor microelectromecanice (MEMS) și fabricarea avansată a circuitelor integrate.
Ce dimensiuni de butelii sunt disponibile?
Ambalajul standard include butelii de 47 L, 10 L și 8 L, precum și butelii personalizate la cerere. Electropolizarea interioară a buteliilor este disponibilă pentru aplicații în domeniul semiconductorilor.
Care este presiunea tipică de umplere și greutatea tipică de umplere?
Parametrii tipici de umplere includ o presiune de umplere până la 13–15 MPa și o greutate de umplere de aproximativ 20–25 kg în butelia de 47 L. Greutatea exactă de umplere depinde de gradul de puritate și de cerințele clientului.
Ce tip de robinet este utilizat pentru buteliile de C4F6?
Tipurile obișnuite de supape includ CGA 716, DISS 716 și supape personalizate de calitate semiconductor. Selectarea supapelor poate fi personalizată în funcție de standardele regionale
Cum asigurați puritatea și stabilitatea gazelor?
Asigurăm calitatea prin sisteme avansate de purificare a gazelor, tehnologii de eliminare a umidității și a oxigenului, analiză cromatografică a gazelor (GC) și Certificat de Analiză (COA), furnizat împreună cu fiecare butelie
Care este termenul de livrare?
Termenul obișnuit de livrare este de 15–25 de zile după primirea avansului. Livrarea accelerată este disponibilă în funcție de stocul existent și de pregătirea buteliilor
Cu ce standarde sunt conforme buteliile dvs.?
Buteliile noastre sunt conforme cu standardele ISO 9809, DOT 3AA, TPED și EN. Inspectia de către terțe părți este disponibilă la cerere
