Všetky kategórie
ENEN

Produkty

Domovská stránka >  Produkty

VŠETKO

Vysoká čistota 99,999 %, 10 l, 8 l, C4F6 hexafluorbutadién – dodávka plynu pre vysokotechnologické aplikácie a výrobu elektroniky
Vysoká čistota 99,999 %, 10 l, 8 l, C4F6 hexafluorbutadién – dodávka plynu pre vysokotechnologické aplikácie a výrobu elektroniky
Vysoká čistota 99,999 %, 10 l, 8 l, C4F6 hexafluorbutadién – dodávka plynu pre vysokotechnologické aplikácie a výrobu elektroniky
Vysoká čistota 99,999 %, 10 l, 8 l, C4F6 hexafluorbutadién – dodávka plynu pre vysokotechnologické aplikácie a výrobu elektroniky
Vysoká čistota 99,999 %, 10 l, 8 l, C4F6 hexafluorbutadién – dodávka plynu pre vysokotechnologické aplikácie a výrobu elektroniky
Vysoká čistota 99,999 %, 10 l, 8 l, C4F6 hexafluorbutadién – dodávka plynu pre vysokotechnologické aplikácie a výrobu elektroniky
Vysoká čistota 99,999 %, 10 l, 8 l, C4F6 hexafluorbutadién – dodávka plynu pre vysokotechnologické aplikácie a výrobu elektroniky
Vysoká čistota 99,999 %, 10 l, 8 l, C4F6 hexafluorbutadién – dodávka plynu pre vysokotechnologické aplikácie a výrobu elektroniky
Vysoká čistota 99,999 %, 10 l, 8 l, C4F6 hexafluorbutadién – dodávka plynu pre vysokotechnologické aplikácie a výrobu elektroniky
Vysoká čistota 99,999 %, 10 l, 8 l, C4F6 hexafluorbutadién – dodávka plynu pre vysokotechnologické aplikácie a výrobu elektroniky
Vysoká čistota 99,999 %, 10 l, 8 l, C4F6 hexafluorbutadién – dodávka plynu pre vysokotechnologické aplikácie a výrobu elektroniky
Vysoká čistota 99,999 %, 10 l, 8 l, C4F6 hexafluorbutadién – dodávka plynu pre vysokotechnologické aplikácie a výrobu elektroniky

Vysoká čistota 99,999 %, 10 l, 8 l, C4F6 hexafluorbutadién – dodávka plynu pre vysokotechnologické aplikácie a výrobu elektroniky

Dopyt
  • Prehľad
  • Dopyt
  • Súvisiace produkty

O výrobku

Vyzdvihnúť

Elektronická trieda čistoty pre výrobu polovodičov: Naša zlúčenina C4F6 je dostupná v ultra vysokých stupňoch čistoty až do triedy 5N (99,999 %), s extrémne nízkymi hladinami nečistôt vrátane kyslíka (O2), vlhkosti (H2O) a uhľovodíkov, čo zabezpečuje vynikajúcu stabilitu plazmy, konzistentný výkon pri leptaní a vysokú opakovateľnosť procesov, ktoré sú nevyhnutné pre výrobu pokročilých polovodičových zariadení. Optimalizovaná pre pokročilé aplikácie plazmového leptania: C4F6 je špeciálne navrhnutá pre vysokopresné procesy plazmového leptania, vrátane leptania dielektrických vrstiev, leptania oxidových vrstiev, vzorovania materiálov s nízkou permitivitou (low-k) a kontroly kritických rozmerov. Poskytuje vynikajúcu selektivitu, anizotropné leptacie schopnosti a zlepšenú presnosť profilu v porovnaní s konvenčnými fluorouhlíkovými plynmi, ako sú CF4, C2F6 a C3F8, čo ju robí ideálnou pre výrobu pokročilých logických obvodov, pamäťových zariadení a MEMS. Alternatíva s nízkym potenciálom globálneho otepľovania (GWP): V porovnaní s tradičnými perfluorouhlíkovými plynmi poskytuje C4F6 vyššiu účinnosť leptania, nižšiu spotrebu plynu a znížený environmentálny dopad, čím pomáha výrobcom polovodičov dosahovať ciele udržateľnosti pri zachovaní vysokého výrobného výkonu a výťažku. Prísna kontrola nečistôt a vlhkosti: Používame pokročilé systémy čistenia plynov, presné analytické prístroje a prísne protokoly kontroly kvality, aby sme zabezpečili obsah vlhkosti (H2O) ≤ 1 ppm, obsah kyslíka (O2) ≤ 1 ppm a celkový obsah uhľovodíkov ≤ 1 ppm, čím účinne predchádzame kontaminácii platník, nestabilitám plazmy a defektom procesu a zaisťujeme konzistentný a spoľahlivý výkon pri spracovaní polovodičov. Certifikované tlakové nádoby s povrchovou úpravou pre polovodičové aplikácie: Naša zlúčenina C4F6 sa dodáva v štandardných objemoch nádob 47 l, 10 l a v prispôsobených veľkostiach, ktoré sú vyrobené v súlade so štandardmi ISO 9809, DOT 3AA a TPED EN, s možnosťou vnútorného elektropolovania a pasivácie, aby sa minimalizovala tvorba častíc, zabránilo kontaminácii plynu a udržala ultra vysoká čistota plynu počas skladovania a používania.
Specifications Scene image Specifications Scene image Specifications Scene image Scene image

O nás

AGEM bola založená v roku 2008 ako medzinárodný profesionálny výrobca a poskytovateľ služieb v oblasti plynových zariadení so sídlom na Taiwane, Čína. So 16-ročnou zameranou odbornou skúsenosťou v odvetví sa jej globálna prítomnosť, vynikajúca výrobná remeselnosť a komplexný sortiment výrobkov upevnili jej postavenie ako vzorového podniku v odvetví plynových zariadení. Spoločnosť sa riadi stratégiou globálneho rozvoja a založila moderné výrobné základne na čínskom kontinente, na Taiwane, Čína, a v Indii, čím vytvorila výrobnú a servisnú sieť pokrývajúcu Áziu a rozširujúcu sa do celého sveta. Každá základňa je vybavená inteligentnými výrobnými linkami a presnými testovacími zariadeniami, čo umožňuje komplexnú kontrolu celého výrobného procesu – od spracovania surovín až po dodanie hotového výrobku. S ročnou výrobnou kapacitou, ktorá sa trvalo radí medzi najvyššie v odvetví, spoločnosť dokáže rýchlo reagovať na rozmanité potreby svojich zákazníkov po celom svete. Základnou činnosťou je výroba kľúčových plynových zariadení, ktorá zahŕňa komplexný sortiment výrobkov vrátane rôznych priemyselných plynov, špeciálnych plynových ventilov, vysokotlakových tlakových nádob, ľahkých hliníkových tlakových nádob a vysokopresných reduktorov tlaku. Tieto výrobky sa široko používajú v kritických odvetviach, ako sú chemický priemysel, elektronika, zdravotníctvo a energetika. Využitím hlbokých technických znalostí získali výrobky certifikáciu systému manažmentu kvality ISO 9001 a viaceré autoritatívne medzinárodné certifikácie, vrátane certifikácie ASME pre vysokotlakové zariadenia, certifikácie CE-PED pre prístup na európsky trh a ex-zabezpečenej certifikácie IECEx pre globálne použitie. Kľúčové ukazovatele výkonu, ako je tesniaca schopnosť, odolnosť voči tlaku a bezpečnostné ochranné funkcie, dosiahli medzinárodne pokročilé úrovne. Spoločnosť si stále kládla dôraz na technologickú inováciu ako na svoju základnú konkurenčnú výhodu a zformovala medzinárodný výskumný a vývojový tím, ktorý neustále investuje do technologických prelomov.
Customization capabilities Factory profile Competitive advantages Company overview Factory profile

Často kladené otázky

Aké stupne čistoty C4F6 ponúkate

Ponúkame C4F6 pre polovodičový priemysel, vrátane stupňa 4N (99,99 %), 4,5N (99,995 %) a 5N (99,999 %). Vyššie stupne čistoty sú k dispozícii na vyžiadanie.

Aké sú typické aplikácie C4F6

C4F6 sa predovšetkým používa pri plazmovom leptaní v polovodičovom priemysle, leptaní dielektrických vrstiev, leptaní oxidov, leptaní nízkok dielektrických materiálov (low-k), výrobe MEMS a výrobe pokročilých integrovaných obvodov.

Aké veľkosti tlakových nádob sú dostupné

Štandardné balenie zahŕňa valce s objemom 47 l, 10 l, 8 l a špeciálne valce podľa požiadavky zákazníka. Pre polovodičové aplikácie je k dispozícii elektropolovanie vnútorného povrchu valca.

Aký je typický tlak plnenia a hmotnosť plnenia

Typické parametre plnenia zahŕňajú tlak plnenia až 13–15 MPa a hmotnosť plnenia približne 20–25 kg do valca s objemom 47 l. Presná hmotnosť plnenia závisí od stupňa čistoty a požiadaviek zákazníka.

Aký typ uzáveru sa používa pre valce s C4F6

Medzi bežné typy ventilov patria CGA 716, DISS 716 a špeciálne ventily pre polovodičový priemysel. Výber ventilov je možné prispôsobiť na základe regionálnych noriem.

Ako zabezpečujete čistotu a stabilitu plynov?

Zabezpečujeme kvalitu prostredníctvom pokročilých systémov čistenia plynov, technológií odstraňovania vlhkosti a kyslíka, plynovej chromatografie (GC) a certifikátu analýzy (COA), ktorý sa dodáva s každou tlakovou nádobou.

Aká je doba dodania?

Bežná doba dodania je 15 až 25 dní po prijatí zálohy. Rýchlejšia dodávka je možná v závislosti od dostupnosti skladom a pripravenosti tlakových nádob.

Akým certifikáciám vyhovujú vaše valce?

Naše valce vyhovujú štandardom ISO 9809, DOT 3AA, TPED a EN. Tretia strana môže vykonať kontrolu na žiadosť.

Kontaktujte nás