EN
AR
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
TL
ID
SK
SL
UK
VI
TH
TR
AF
MS
SW
GA
CY
BE
KA
LO
LA
MI
MR
MN
NE
UZ
- Tổng quan
- Yêu cầu
- Sản phẩm liên quan
Thông tin sản phẩm:
Carbon tetrafluoride là chất làm lạnh cryogenic tương đối trơ dưới điều kiện bình thường, là chất thay thế oxy, và cũng được sử dụng trong các quy trình etching wafer khác nhau.
CF4 hiện tại là khí etching plasma được sử dụng rộng rãi nhất trong ngành công nghiệp vi điện tử. Nó có thể được sử dụng rộng rãi trong việc etching các vật liệu màng mỏng như silic, dioxide silic, nitride silic, kính phốtpho silic và tungsten, cũng như trong việc làm sạch bề mặt của thiết bị điện tử và pin năng lượng mặt trời. Nó cũng được sử dụng rộng rãi trong sản xuất công nghệ laser, cách điện pha khí, làm lạnh nhiệt độ thấp, chất dò rò rỉ, kiểm soát tư thế của tên lửa không gian, và chất khử nhiễm trong sản xuất mạch in.
Do tính ổn định hóa học của tetrafluorua cacbon, tetrafluorua cacbon có thể được sử dụng trong ngành luyện kim và ngành công nghiệp nhựa
