Porozumění aplikaci polovodičových předkurzorů v jednom článku
Jako jádrovní surovina pro proces nanesení tenké vrstvy zahrnují polovodičové předkovany epitaxii, chemickou parní infiltraci (Chemical Vapor Material, Deposition, zkráceně jako CVD) a infiltraci atomovou vrstvou (Atomic Layer Deposition, zkráceně jako ALD), které tvoří různé tenké filmové materiály potřebné pro výrobu polovodičů, používané v různých oblastech výroby polovodičů.
EN
AR
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
TL
ID
SK
SL
UK
VI
TH
TR
AF
MS
SW
GA
CY
BE
KA
LO
LA
MI
MR
MN
NE
UZ