ニュース

一酸化窒素 (NO) の理解：特性、安全性、および応用

Aug 30, 2025

一酸化窒素は一般的に化学式 NO で知られる無機化合物であり、さまざまな科学的および産業的応用において重要な役割を果たしている。窒素酸化物の一種として分類される一酸化窒素は、常温では無色・無臭であり、...

臭化水素（HBr）の理解：性質、用途、および安全
Aug 16, 2025
化学式HBrを有する臭化水素は、その特異な性質と様々な産業分野での広範な応用によって注目される無機化合物です。常温において、これは無色のガスとして現れ、多くの分野で幅広く利用されています...
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硫化水素 (H2S) の理解：性質、危険性、および用途
Jul 26, 2025
硫化水素（一般的にH2Sと略される）は、一連の特異な性質と潜在的な危険性を有する無機化合物である。分子量は34.076であり、H2Sは可燃性の酸性ガスとして知られており、重要な意味を持...
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二酸化硫黄（SO2）の基礎知識：その性質、用途および環境への影響
Jul 19, 2025
二酸化硫黄（SO2）はもっとも一般的で単純な硫黄酸化物の一つであり、化学式SO2で知られています。この無色透明のガスは刺激臭があり、さまざまな産業分野で特徴的な存在となっています。また、...
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塩化水素（HCl）の理解：性質と用途
Jul 12, 2025
塩化水素は化学式HClで表される無色のガスで、特徴的な鋭く刺激臭のある匂いを持っています。1分子の塩化水素は、1個の塩素原子と1個の水素原子から構成されています。水に溶解すると、それは塩酸と...
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六フッ化硫黄（SF6）の理解：電気絶縁技術の未来
Jun 25, 2025
六フッ化硫黄、通称SF6は、無機化合物であり、電気工学分野で大きな注目を集めています。化学式SF6を持つこの化合物は、無色、無臭、無毒、非可燃性です...
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エチレン（C2H4）の理解：必須の有機化合物
Jun 10, 2025
エチレン（C2H4）は、二つの炭素原子と四つの水素原子からなる単純な有機化合物であり、化学および農業科学の分野で重要な役割を果たしています。分子量が28.054のエチレンは、二重結合を持つ炭素原子によって特徴づけられています...
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感謝の気持ちを込めて新年を迎える：大切なお客様への感謝
Jan 06, 2025
新しい年を迎えようとするとき、[あなたの会社名]では、これまでに共有してきた旅について、すべての尊敬すべきお客様と共に振り返っています。ここに手紙を書き、心からの感謝を表したいと思います...
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春節の休暇安排と新年のご挨拶
Jan 02, 2025
親愛なるお客様へ、春節が近づいています。この機会に、一年を通して私たちへの継続的なご支援と信頼に対し、心からの感謝の意を表したいと思います。皆様に新しい年がますます繁栄し、幸せで調和のとれた...
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営業チームがインドネシアを訪問し、SF6、O2、ヘリウム、その他のガス分野での協力を深める
Dec 01, 2024
最近、当社の営業チームは重要なビジネストリップとしてインドネシアへ赴き、現地の顧客とSF6、O2、ヘリウム、CO2、CO、CH4、N2O、ETOなどの分野で協力を深め、さらなる潜在的な協力機会を探る目的で活動しました...
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営業チームのタイ訪問が成功裡に終了し、現地の有名企業との2025年度協力契約が締結されました
Nov 28, 2024
最近、当社の営業チームは複数日のビジネス訪問および交流旅行でタイに行きました。この訪問の主な目的は、タイの有名な現地企業との協力について深く議論することでした…
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我が社は2024/9/11~9/13にインドで開催された半導体展示会に参加しました
Aug 21, 2024
私たちの会社が、2024年9月11日から9月13日に開催されるインド国際半導体展に参加することを嬉しくお知らせします。この展示会は、主要なメーカーが一堂に会し、...
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イギリス：「笑気ガス」は今年末まで規制対象となり、乱用（薬物乱用）が禁止され、最大2年の懲役が科される
Dec 21, 2023
今年9月に、イギリス政府は「亜酸化窒素（ニトロウスオキサイド）」に関する立法を行い、亜酸化窒素をC類薬物として規制することになりました。この措置は今年末に施行される見込みです。今年10月に我が国は立法を...
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2023年の世界ヘリウム市場
Dec 21, 2023
インテリガスは、2023年の世界的なヘリウム供給量を約59億立方フィート（BEF）と推定しており、これは2022年の約57億立方フィート（BEF）から増加し、2021年の水準に戻ったものです。大規模な新しいヘリウム資源がオンライン化されれば、世界的な供給量は拡大すると予測されます...
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1つの記事で半導体前駆体の応用を理解する
Dec 21, 2023
薄膜形成プロセスの核心的な原材料として、半導体前駆物質にはエピタキシャル成長、化学気相成長（Chemical Vapor Material, Deposition、略してCVD）と原子層成長（Atomic Layer Deposition、略してALD）が含まれます…
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