Mae llifion yn bopeth, o'ch symudiadau clyfar a chyfrifiaduron bersonol i unrhyw fath arall o drefn electronig. Mae'n rhaid eu gwneud trwy broses penodol ac yn defnyddio amrywiaeth o gasau. Mae'r canlyniad nesaf yn dangos cyfrif o'r hanner o gasau sy'n cael eu defnyddio gan un diwydiant yn unig a sut mae'r pwerau uchel-henod yma yn cael eu cynnig i greu'r pethau rydyn ni'n gorfod arnynt. Yr Amrywiaeth o Gasau Different sy'n cael eu Defnyddio yn y Bydau o Fabriese Semiconductors Mae'r llifion yn cael eu ffurfio gan ddefnyddio cyfres cymhleth o brosesau megis etching, deposition a thesturo. Mae'r amrywiaeth o broperthi a chynlluniau yma yn amrywio yn benodol yn dilyn defnydd neu gofodion atmosferig i'w bod yn, a beidio â'i fod yn y tu allan i gas suppliers diwydiannol, gas suppliers llif semiconductors arbennig, fam, neu yn y labordy, yn cynnig spectrwm eang a gyfateb i gyffredinol llawer ohonynt gyda pherthynas angenrheidiol er mwyn cyflawni'r gwaith fel medru ei wneud yn ddrud. Ar gyfer heddiw, ar yr achos hon, rydym yn cyflwyno rai o'r llifion arweinydd sy'n cael eu defnyddio ar gyfer brosesau creu materion. Silane SiH4: Mae'r gas hwn yn glir ac hefyd yn cael ei adlewyrchu fel deunydd silicon-eletronig sylfaenol. Mae'n gwybod fod yn ddynodaidd ac yn ymateb yn gyflym â chysgu a dŵr i greu silicon oxide SiO a gas hidrogen. Gall silane ei ddefnyddio i leoli'r deunydd silicon-sylfaenol, megis SiNx, either yn gyflym neu ar ôl rhith temperatur isel. Elfen Nitrogen N2: Mae'r gas hwn yn annwyl ac yn atal ymosodiad. Mae'n cael ei gynhyrchu'n parhaus ac yn ofynnol i gorchuddio'r amgylchedd yn y broses cynnal er mwyn tynnu'r sgyrs o O2 a chysgu. Mae'r math o gas hwn yn cael ei ddefnyddio hefyd i gefnogi a throseddu gweithgareddau eraill o gasau, gweithio fel gas carrier yn y broses vapor deposition nichrome a plasma enhanced nichrome vapour deposition.
Hydrogen (H2) - Mae hydrogein yn cael ei ddefnyddio fel gas leisg gan tynnu anghydraddau o ffurfau. Yn y gweithredu semiconductor, mae'n cam allweddol i rai brosesau megis annealing a datrysio. Ychwanegol i hynny, mae hydrogein yn creu gwawd metall sy'n hanfodol ar gyfer cynhyrchu delerau cmos uchel.
Oxygen Stabil (O2/O) - Rhowch amserion tudalen a threfniadau, ac ati. O Gas Er enghraifft, mae oxygen yn cael ei ddefnyddio mewn nifer o brosesau plasma megis etch a strip/ash, ond hefyd mae'n rhagdybio siliciwm-weddiad i SiOx neu pasioffant siofau metall trwy ddioddef.
Chlorine (Cl2): Mae chlorine yn lliflach melyn neu goch, a phynciant odran, yn y cyfamser â bod yn llyfn. Mae'r gas hwn, sy'n fwyaf reoliadol gyda materion wedi eu seiliedig ar silicon, di-oxid silicon, a chymaint o meteala yn gymysgedd â lu, wedi'i ddefnyddio mewn nifer o gyfeiriadau yn y gweithredu strwythurau semiconductor.
Yr iaith fod gaseg yn cael eu defnyddio yn y cynhyrchu o semiconductors wedi arwain i greu electronig uchel-fidelit, gan eu cynhyrchu gan nodwynt cynhyrchu semiconductorau. Mae gaseg hefyd yn cael llawer o defnyddion a phredigyn sylweddol yn y diwydiant semiconductor.
Mae gaseg fel Silane, unblastiad a chyfaint yn cael eu defnyddio i gofrestru silicon oxide neu nitride sy'n mynd i fod yn filmlau bach o semiconductors. Gofrestru.
Chwilio: Mae'n cael ei ddefnyddio i ddal materion na fyddan nhw neu patrymau o semiconductorau gan ddefnyddio gaseg fel chlorine, fluorine a oxygen.
Gaseg broses: Mae hydrogen a chyfaint yn cael eu gofyn am gyfarparu amserlen semiconductor (purification) er mwyn lleihau angenhadau sy'n gallu effeithio ar perfformiad dyfais.
Purging: Un o'i defnyddiau mawr yw ble mae'n gweithio fel gas gwirio pan mae gwaith cynnal ar faterion yn mynd ymlaen, hyn i ddatgelu oxygen a chywilydd o'r system, gan gadw'r datrysiad yn rhan allan.
Fel canlyniad, ymchwilio am ddatrysiadau a phrosesau mor cymhleth yn y diwedd pan mae'r diwydiant semigwred yn cynyddu does dim amgylchiad. Mae gwres newydd yn hanfodol i welliannau cyfartalog semigwred y dyfodol. Oedi, o ran hynny, yma yw rai o'r gwasanaethau technolegol uchel ym maes gwneud semigwred:
Carbonyddau: Rheswm fod gwresau â phrifnodiad fwluro yn dda ar gyfer cynhyrchu cynlluniau drefn gyfoes yw gan eu bod nhw'n ymateb agressydd ac dewisiadol i wneud etch (tynnu eitemau) a deposition (ychwanegu rhanau).
CO2 - Gwasanaeth anferth sy'n cael ei ddefnyddio ar gyfer safbwyntiau megis sputtering, CVD a chlirio.
Er enghraifft, gellir ei weld fel cam newydd yn y cynhyrchu o semigwredion, unig yn unig oherwydd systemau cyflwyno newydd posib heddiw. Mae cynhyrchwyr yn chwilio am ffordd i wella effeithrwydd, lleihau llanw a chynyddu diogelwch. Mae rhai o'r gwresau a systemau cyflwyno cemeg newyddaf ar gael nawr yn cael eu rhestru jest islaw.
System ddalu gas (ar gyfer gasau sydd yn rheoli'n gywir swm bach o gas neu daffodauc llyfain angen ar gyfer dioddefenion)
Ffynhonnell: Systemau Datrys Wafer Wet Arloesol ozoone plasma a hydrogen peroxide ar gyfer y ffordd mwyaf effeithiol i glirio amheuson o'r materiale dioddefenion.
Gall gasau dioddefenion achlysu gwahaniaeth ar gyfer electronig mwy effeithlon ond hefyd eu bod yn cynnig camdriniaethau amgylcheddol danieithlon. Mae rhai brogramau wedi'u sefydlu i leihau llwm a ailgyfeirio gas ar draws yr hysbysector dioddefenion. Nid yw hyn wahanol i'r ffordd maen nhw'n gweithio er mwyn atal penodau amgylcheddol sy'n gysylltiedig â chasau dioddefenion;
Y cyntaf ac fwyaf uniongyrchol yw Lleihau Llwm -> Mae cynhyrchwyr yn edrych ar gyfer lleihau maint y llwm sy'n cael ei chreu yn ystod cynhyrchu dioddefenion. Pethau fel lleihau nifer y daffodauc a gasau sy'n cael eu defnyddio, eu hailgyfeirio pan fo modd, neu creu systemau cylchlog.
Ail-llythrennu: Ail-llythrennu gaseg a chemegau fydd yn ffordd arall allweddol sy'n helpu i leihau effaithau amgylcheddol. Gellir leihau cynnyrchion llwm yn well gan gyfrannwyr sy ganiatáu tynnu atô, gwesgo a thalu'r gaseg neu'r chemegau sy'n cael eu defnyddio yn y cynhyrchu.
Crynodeb: Mae gaseg yn hanfodol ar gyfer cynhyrchu rai o'r ddogfen electronig gorau ar gael. Mae cyfrannwyr yn addas ar wellhau gasau cymhleth a phrosesau cyflwyno sy'n helpu prosesau gorfforol, lleihau wastraff a diogelwch y gymuned. Bydd y sector semiffig yn parhau ar yr orsaf defnyddio gaseg-heblaw - ac mae llwybr ymdrech amgylcheddol y gaseg wedi llwyddo i gyflwyno nifer o gefndirogiad hyder yn y blynyddoedd diweddaraf.
AGEM yw gweithle ar gyfer cynhyrchu a datblygu gas a sefydlwyd yn Taiwan gyda dros 25 mlynedd o brofiad ymchwil a datblygu yn y maes hwn, gyda wybodaeth anghyfartal am gasau Electronegol Lefel Uwch, Gasau Calibrwm a Gasau Arbennig ar hyd y byd mewn chwe ardal wahanol: Taiwan - Dinas Kaohsiung (Gyrfa, Canolfan Ymchwil a Datblygu) India - Mumbai, Vadodara, Coimbatore, Pune, Bengaluru, Delhi China - Wuhan Canol Iwerddon - Dubai (Emiriaid Arab Unedig) a'r Teyrnas Saudi United Kingdom - Cambridge. Cynhwysir yn y golliannau gas ein cynnig ni Technegol Ymgynghoriad. Asesu a Chymryd i Lawr. Prawf Samplau. Pachio a Tharo. Dylunio Drawings. A chynhyrchu.
Ar gyfer nwyon a ddefnyddir mewn cynhyrchu semicondwr, yw gollyngiad nwy un o'r problemau mwyaf, ac felly rydym yn cynnal profi ar gollyngiadau fwy na pump gwaith er mwyn sicrhau'r ansawdd. Mae gennym linell gynhyrchu llawn swyddogaeth â rheoli ansawdd cryf, a system llawn o wasanaethau ar ôl gwerthu. Mae hyn yn sicrhau bod ein cleientiaid yn derbyn cynhyrchion o ansawdd uchaf. Rydym yn brwd o'n deddfryd i werthfawrogi a gwasanaethau i'r cleient. Mae ein proffesiynolion sydd â sgiliau uchel yn bob amser ar gael i'ch helpu a sicrhau bod eich gofynion yn cael eu cyflawni. Mae ein gwasanaeth 24/7 yn ein gwahaniaethu. Rydym ar gael i'n cleientiaid bob amser.
Mae AGEM yn darparu amrywiaeth o wylion cryogenig, sydd yn gallu gyfathroi ddefnyddol rhyngwynebau a gasau cryogenig fel oxygen llyfaint, argon, diwedd carbon, nitrogen a Nitrous Oxide. Rydym yn defnyddio gynllunyddiadau a thechnoleg dygyfrifol iawn o wladannu i wneud yn siŵr bod y perfformiad yn uchel. Mae'n cael defnydd ar fynediad cynyddu gas ac mae'r cyfarfod â phresiwr gas uwch yn cael ei chynghori yn y fanogaeth gas. Mae'r ddwy allfor diogelwch yn rhoi caniatâd sylweddol i weithredu'n ddiogel. Mae gan ni amrywiaeth o wylion cryogenig, sy'n gallu cadw llifau cryogenig cyffredin: Llawn Cyfaint: 80L/100L/175L/195L/210L/232L/410L/500L/1000L Gwaith presiwr: 1.37MPa/2.3MPa/2.88MPa/3.45MPa. Teimlad cynllunio tanell fewnol: (-196 Teimlad cynllunio cylch tan: 50oC+20oC. Cysylltiad: Amryw o lefelau o golli synnwyr. Cadw medium: LO2, LN2, LAr, LCO2, LNG
AGEM yn cydnabod bod gwerthfawr i bob cwsmer angen rhywbeth wahanol yng nghamp y gasau arbennig, megis gas calibrasi. Rhoym ni ddatblygiadau addasol er mwyn ateb yr anghenion penodol ein cleientiaid. Os oes angen amrediad gwblhaidd penodol, maint cylindrau neu opsiynau packio, gall AGEM gweithio gyda chi i ffitio eu cynnigi yn unol â'ch gofynion penodol. Y gradd o addasu hwn fydd yn sicrhau eich bod chi'n cael y cylindr gas calibrasi gorau ar gyfer eich defnydd, sy'n wella'r cyd-efisgedd a pherfformiad cyfan. Does dim cyfyngiad ar gymhwystra cynllun AGEM i gasau calibrasi. Mae'r catalog AGEM yn cynnwys Gasau Hydrocarbon, Halocarbonau, Gasau Cemegol ac Gasau Rar. Gallwch fod yn siŵr bod AGEM yn gynnwys y math benodol o gas rydych yn ei ddymuno.
AIR GAS ELECTRONIC MATERIALS (AGEM) yw llan gas a chynllunio a datblygu yn Lleoliad Taiwan, gan gael arbenigedd anghyfartal yn y maes o Gasau Arbennig, Electronig, Mawr ac Amodiannu trwy'r byd yn 6 ardaloedd wahanol
Ystafell1002, Adeilad A, Plas rhyngwladol Huangzhong, Rhif182. Heol Huangxiaohe, Trefddyn Jiangan, Wosa 430014, Tsieina
Hawlfraint © Air Gas Electronic Materials Enterprise Co., Ltd. Polisi Preifatrwydd
EN
AR
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
TL
ID
SK
SL
UK
VI
TH
TR
AF
MS
SW
GA
CY
BE
KA
LO
LA
MI
MR
MN
NE
UZ
