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Hochreiner C4F6-Gaslieferant (Hexafluorbutadien) mit 99,999 % Reinheit in Flaschenvolumina von 10 l und 8 l für Hochtechnologieanwendungen in der Elektronikfertigung
- Überblick
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Über das Produkt
Ausdruck
Elektronikgrad-Reinheit für die Halbleiterfertigung: Unser C4F6 ist in ultrahochreinen Qualitäten bis zu 5N (99,999 Prozent) erhältlich und zeichnet sich durch extrem niedrige Verunreinigungsgehalte aus, darunter Sauerstoff (O2), Feuchtigkeit (H2O) und Kohlenwasserstoffe. Dadurch wird eine hervorragende Plasma-Stabilität, konsistente Ätzleistung und hohe Prozesswiederholbarkeit gewährleistet – Voraussetzungen, die für die Herstellung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente erforderlich sind. Optimiert für anspruchsvolle Plasma-Ätzanwendungen: C4F6 wurde speziell für hochpräzise Plasma-Ätzprozesse entwickelt, darunter Dielektrikum-Ätzen, Ätzen von Oxidschichten, Strukturierung von Low-k-Materialien sowie Kontrolle kritischer Abmessungen (Critical Dimension Control). Im Vergleich zu herkömmlichen Fluorkohlenwasserstoffen wie CF4, C2F6 und C3F8 bietet es eine höhere Selektivität, eine ausgeprägte anisotrope Ätzfähigkeit und verbesserte Profilgenauigkeit – wodurch es sich ideal für die Fertigung fortschrittlicher Logik-, Speicher- und MEMS-Bauelemente eignet. Alternative mit geringem Treibhauspotenzial (GWP): Im Vergleich zu traditionellen perfluorierten Kohlenwasserstoffen bietet C4F6 eine höhere Ätzeffizienz, einen geringeren Gasverbrauch und eine reduzierte Umweltbelastung. Damit unterstützen wir Halbleiterhersteller dabei, ihre Nachhaltigkeitsziele zu erreichen, ohne Einbußen bei Produktionsleistung und Ausschussquote in Kauf nehmen zu müssen. Strenge Kontrolle von Verunreinigungen und Feuchtigkeit: Wir setzen fortschrittliche Gasreinigungssysteme, präzise analytische Instrumente sowie strenge Qualitätskontrollprotokolle ein, um sicherzustellen, dass der Gehalt an Feuchtigkeit (H2O) ≤ 1 ppm, Sauerstoff (O2) ≤ 1 ppm und gesamte Kohlenwasserstoffe ≤ 1 ppm beträgt. Dadurch wird eine Kontamination von Wafern, Plasma-Unstabilität und Prozessfehler wirksam verhindert und eine konsistente sowie zuverlässige Leistung bei der Halbleiterverarbeitung gewährleistet. Zertifizierte Gasflaschen mit Halbleiter-Standard-Oberflächenbehandlung: Unser C4F6 wird in Standardgrößen von 47 L und 10 L sowie nach Kundenwunsch angefertigten Flaschengrößen geliefert. Die Flaschen werden gemäß den Normen ISO 9809, DOT 3AA und TPED EN hergestellt und können optional innenseitig elektropolitiert sowie passiviert werden, um Partikelbildung zu minimieren, eine Kontamination des Gases zu verhindern und während Lagerung und Einsatz die ultrahohe Gasreinheit aufrechtzuerhalten.
Über uns
AGEM wurde 2008 als multinationales, professionelles Unternehmen für die Herstellung und den Service von Gasgeräten mit Hauptsitz in Taiwan, China, gegründet. Mit 16 Jahren branchenspezifischer Expertise haben dessen globale Präsenz, herausragende Fertigungskompetenz sowie umfassendes Produktportfolio AGEM zu einem Referenzunternehmen im Bereich Gasgeräte gemacht. Das Unternehmen verfolgt eine Globalisierungsstrategie und betreibt moderne Produktionsstätten auf dem chinesischen Festland, in Taiwan, China, und in Indien; dadurch entstand ein Produktions- und Servicenetzwerk, das Asien abdeckt und weltweit ausgedehnt ist. Jede Produktionsstätte ist mit intelligenten Fertigungslinien und hochpräzisen Prüfeinrichtungen ausgestattet, was eine lückenlose Prozesskontrolle – von der Rohstoffverarbeitung bis zur Auslieferung des fertigen Produkts – ermöglicht. Mit einer jährlichen Produktionskapazität, die kontinuierlich zu den Branchenführern zählt, kann das Unternehmen rasch auf die vielfältigen Anforderungen seiner globalen Kunden reagieren. Das Kerngeschäft konzentriert sich auf gasbezogene Kernkomponenten und umfasst ein vollständiges Produktspektrum: verschiedene technische Gase, spezielle Gasventile, Hochdruckflaschen, leichte Aluminiumflaschen sowie hochpräzise Druckminderer. Diese Produkte finden breite Anwendung in kritischen Sektoren wie Chemie, Elektronik, Gesundheitswesen und Energie. Aufgrund tiefgreifender technischer Kompetenz erhielten die Produkte die ISO-9001-Zertifizierung für das Qualitätsmanagementsystem sowie mehrere maßgebliche internationale Zertifizierungen, darunter die ASME-Zertifizierung für Hochdruckausrüstung, die CE-PED-Zertifizierung für den Zugang zum EU-Markt sowie die IECEx-Zertifizierung für explosionsgeschützte Geräte für den weltweiten Einsatz. Schlüsselkenngrößen wie Dichtleistung, Druckfestigkeit und Sicherheitsschutz haben international führende Niveaus erreicht. Das Unternehmen stellt technologische Innovation konsequent in den Mittelpunkt seiner Kernwettbewerbsfähigkeit, beschäftigt ein internationales Forschungs- und Entwicklungsteam und investiert kontinuierlich in technologische Durchbrüche.
Häufig gestellte Fragen
Welche Reinheitsgrade von C4F6 bieten Sie an?
Wir bieten Halbleiter-Grad-C4F6 an, einschließlich 4N (99,99 Prozent), 4,5N (99,995 Prozent) und 5N (99,999 Prozent). Höhere Reinheitsgrade sind auf Anfrage erhältlich.
Wofür wird C4F6 typischerweise eingesetzt?
C4F6 wird hauptsächlich in der Halbleiter-Plasmaätzung, bei der Ätzung dielektrischer Schichten, der Oxidätzung, der Ätzung niedrig-k-dielektrischer Materialien, in der MEMS-Herstellung und bei der Fertigung fortschrittlicher integrierter Schaltungen verwendet.
Welche Flaschengrößen sind verfügbar?
Die Standardverpackung umfasst 47-Liter-Flaschen, 10-Liter-Flaschen, 8-Liter-Flaschen sowie kundenspezifische Flaschen auf Anfrage. Für Halbleiteranwendungen ist eine elektropolitische Innenbehandlung der Flaschen verfügbar.
Was ist der typische Fülldruck und das typische Füllgewicht?
Zu den typischen Füllparametern gehören ein Fülldruck von bis zu 13 bis 15 MPa und ein Füllgewicht von etwa 20 bis 25 kg in einer 47-Liter-Flasche. Das genaue Füllgewicht hängt vom Reinheitsgrad und den Kundenanforderungen ab.
Welcher Ventiltyp wird für C4F6-Flaschen verwendet?
Häufige Ventilarten umfassen CGA 716, DISS 716 und maßgeschneiderte Halbleiter-Grad-Ventile. Die Ventilauswahl kann anhand regionaler Standards angepasst werden.
Wie stellen Sie die Gasreinheit und -stabilität sicher?
Wir gewährleisten Qualität durch fortschrittliche Gasreinigungssysteme, Technologien zur Entfernung von Feuchtigkeit und Sauerstoff, Gaschromatographie-(GC-)Analysen sowie ein Analysezertifikat (Certificate of Analysis, COA), das mit jedem Zylinder geliefert wird.
Wie hoch ist die Lieferzeit?
Die typische Lieferzeit beträgt 15 bis 25 Tage nach Eingang der Anzahlung. Eine schnellere Lieferung ist je nach Lagerbestand und Zylindervorbereitung möglich.
Welchen Zertifizierungen entsprechen Ihre Zylinder?
Unsere Zylinder erfüllen die ISO-9809-, DOT-3AA-, TPED- und EN-Normen. Eine Prüfung durch eine unabhängige Drittpartei ist auf Anfrage möglich.
