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Informazioni sul prodotto:
Il tetrafluoruro di carbonio è un refrigerante criogeno che è relativamente inerte in condizioni normali, uno spostatore di ossigeno e viene anche utilizzato in vari processi di etching su wafer.
Il CF4 è attualmente il gas di etching a plasma più ampiamente utilizzato nell'industria microelettronica. Può essere ampiamente utilizzato nell'etching di materiali a film sottile come silicio, biossido di silicio, nitruro di silicio, vetro fosfosilicato e tungsteno, e nella pulizia superficiale dei dispositivi elettronici e delle celle solari. Viene anche utilizzato ampiamente nella produzione di tecnologia laser, isolamento a fase gassosa, raffreddamento a bassa temperatura, agenti rivelatori di perdite, controllo dell'assetto dei razzi spaziali e agenti di decontaminazione nella produzione di circuiti stampati.
A causa della stabilità chimica del tetrafluoruro di carbonio, il tetrafluoruro di carbonio può essere utilizzato nell'industria della fusione dei metalli e in quella dei plastici
