Etchant

TUTTI

• Gas Misto

  • Gas Laser Excimer/Gas Arf Premix

• Agenti di Etching

  • GeH4
  • SiH4
  • SiF4
  • BF3
  • HBR
  • N2O
  • WF6
  • SO2
  • SF6

• Reagenti

  • NO,Ossido Nitroso
  • H2S
  • CO,Monossido Di Carbonio
  • NH3
  • HCL

• Idrocarburi

  • C2H2
  • C3H8
  • CH4
  • C2H6
  • C3H6
  • C2H4
  • EO/ETO

• Gas Industriali e Speciali

  • O2
  • CO2
  • Idrogeno
  • N2
  • Xenon
  • Neon
  • Krypton
  • Elio
  • Argon
  • CL2

• Halocloruri

  • C5F8
  • R508B
  • CHF3
  • C4F8
  • CH3F
  • C2F6
  • C4F6
  • CH2F2
  • CF4
  • C3F8

• Gas Freddo

  • R290
  • R170
  • R508B

• Equipaggiamento A Gas

  • Pompa
  • Porta Cilindri
  • Armadietto Per Gas
  • Regolatore Di Ossigeno
  • VMB
  • Serbatoio ISO
  • Cappotto Cilindrico
  • Valvola
  • Cilindro in Alluminio
  • Cilindro in Acciaio

• Altri Chimici

  • Caricatore di Crema
  • AlH3