Fornitura di gas esafluorobutadiene C₄F₆ ad alta purezza (99,999 %), da 10 L e 8 L, per applicazioni high-tech e produzione elettronica

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Purezza di grado elettronico per la produzione di semiconduttori: il nostro C4F6 è disponibile in gradi di purezza ultraelevata fino a 5N (99,999%), con livelli estremamente bassi di impurità, inclusi ossigeno (O2), umidità (H2O) e idrocarburi, garantendo una stabilità superiore del plasma, prestazioni di incisione costanti e un’elevata ripetibilità del processo, requisiti essenziali per la fabbricazione avanzata di dispositivi semiconduttori. Ottimizzato per applicazioni avanzate di incisione al plasma: il C4F6 è specificamente progettato per processi di incisione al plasma ad alta precisione, tra cui l’incisione dielettrica, l’incisione degli strati di ossido, il patterning di materiali a bassa costante dielettrica (low-k) e il controllo delle dimensioni critiche (critical dimension), offrendo una selettività superiore, capacità di incisione anisotropa e maggiore accuratezza del profilo rispetto ai tradizionali gas fluorocarbonici come CF4, C2F6 e C3F8, rendendolo ideale per la produzione avanzata di dispositivi logici, di memoria e MEMS. Alternativa a basso potenziale di riscaldamento globale (GWP): rispetto ai tradizionali gas perfluorocarbonici, il C4F6 garantisce un’efficienza di incisione superiore, un minore consumo di gas e un ridotto impatto ambientale, supportando i produttori di semiconduttori nel raggiungimento dei propri obiettivi di sostenibilità, senza compromettere le elevate prestazioni produttive e il rendimento. Controllo rigoroso di impurità e umidità: utilizziamo sistemi avanzati di purificazione dei gas, strumenti analitici di precisione e protocolli stringenti di controllo qualità per garantire che l’umidità (H2O) sia ≤ 1 ppm, l’ossigeno (O2) ≤ 1 ppm e il totale degli idrocarburi ≤ 1 ppm, prevenendo efficacemente la contaminazione dei wafer, l’instabilità del plasma e i difetti di processo, assicurando prestazioni coerenti e affidabili nella lavorazione dei semiconduttori. Bombole certificate con trattamento superficiale di grado semiconduttore: il nostro C4F6 è fornito in bombole standard da 47 L e 10 L, nonché in dimensioni personalizzate, realizzate nel rispetto degli standard ISO 9809, DOT 3AA e TPED EN, con opzionale trattamento interno di elettrolucidatura e passivazione per minimizzare la generazione di particelle, prevenire la contaminazione del gas e mantenere la purezza ultraelevata durante stoccaggio e utilizzo.

Chi siamo

AGEM è stata fondata nel 2008 come produttore e fornitore di servizi professionale multinazionale di attrezzature per gas, con sede centrale a Taiwan, Cina. Con 16 anni di consolidata esperienza settoriale, la sua presenza globale, l’eccellenza manifatturiera e il suo ampio portafoglio prodotti ne hanno consolidato la posizione di azienda di riferimento nel settore delle attrezzature per gas. L’azienda adotta una strategia di sviluppo globale, stabilendo basi produttive moderne nella Cina continentale, a Taiwan, Cina e in India, formando così una rete produttiva e di servizi che copre l’Asia e si estende a livello globale. Ogni sede è dotata di linee di produzione intelligenti e di apparecchiature di prova di precisione, consentendo un controllo completo su tutto il processo, dalla lavorazione delle materie prime alla consegna del prodotto finito. Con una capacità produttiva annuale costantemente tra le più elevate del settore, l’azienda è in grado di rispondere tempestivamente alle esigenze diversificate dei clienti internazionali. L’attività principale si concentra sulle attrezzature fondamentali per gas, comprendendo un’ampia gamma di prodotti quali vari gas industriali, valvole specializzate per gas, bombole ad alta pressione, bombole leggere in alluminio e riduttori di pressione ad alta precisione. Questi prodotti trovano impiego diffuso in settori critici quali chimica, elettronica, assistenza sanitaria ed energia. Grazie a una profonda competenza tecnica, i prodotti hanno ottenuto la certificazione del Sistema di Gestione della Qualità ISO 9001 e numerose altre certificazioni internazionali riconosciute, tra cui la certificazione ASME per le attrezzature ad alta pressione, la certificazione CE-PED per l’accesso al mercato dell’Unione Europea e la certificazione IECEx per l’idoneità all’uso in ambienti potenzialmente esplosivi, valida a livello globale. Gli indicatori chiave di prestazione, quali le prestazioni di tenuta, la resistenza alla pressione e la protezione della sicurezza, hanno raggiunto livelli avanzati a livello internazionale. L’azienda pone costantemente l’innovazione tecnologica al centro della propria competitività, costituendo un team internazionale di ricerca e sviluppo e investendo continuamente in progressi tecnologici.

Domande frequenti

Quali gradi di purezza di C4F6 offrite?

Offriamo C4F6 di grado semiconduttore, compresi i gradi 4N (99,99 %), 4,5N (99,995 %) e 5N (99,999 %). Gradi di purezza superiori sono disponibili su richiesta.

Quali sono le applicazioni tipiche del C4F6?

Il C4F6 è utilizzato principalmente nell’incisione al plasma per semiconduttori, nell’incisione di strati dielettrici, nell’incisione di ossidi, nell’incisione di dielettrici a bassa costante dielettrica (low-k), nella produzione di sistemi microelettromeccanici (MEMS) e nella fabbricazione avanzata di circuiti integrati.

Quali dimensioni di bombola sono disponibili?

L’imballaggio standard comprende bombole da 47 L, 10 L, 8 L e bombole personalizzate su richiesta. La lucidatura elettrolitica interna della bombola è disponibile per applicazioni nel settore dei semiconduttori.

Qual è la pressione di riempimento tipica e il peso di riempimento?

I parametri tipici di riempimento includono una pressione di riempimento fino a 13–15 MPa e un peso di riempimento di circa 20–25 kg per bombola da 47 L. Il peso esatto di riempimento dipende dal grado di purezza e dai requisiti del cliente.

Quale tipo di valvola viene utilizzato per le bombole di C4F6?

I tipi di valvole più comuni includono CGA 716, DISS 716 e valvole personalizzate di grado semiconduttore. La selezione delle valvole può essere personalizzata in base agli standard regionali

Come garantite la purezza e la stabilità dei gas?

Garantiamo la qualità mediante sistemi avanzati di purificazione dei gas, tecnologie per la rimozione di umidità e ossigeno, analisi cromatografica gassosa (GC) e Certificato di Analisi (COA) fornito con ogni bombola

Qual è il tempo di consegna?

Il tempo di consegna tipico è di 15–25 giorni lavorativi dal ricevimento dell’acconto. Consegne accelerate sono disponibili in base alla disponibilità a magazzino e alla preparazione delle bombole

A quali certificazioni sono conformi le vostre bombole?

Le nostre bombole sono conformi agli standard ISO 9809, DOT 3AA, TPED ed EN. È disponibile su richiesta l’ispezione da parte di un ente terzo