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高純度99.999％・10L／8L C4F6ヘキサフルオロブタジエンガス供給（ハイテク分野／電子機器製造向け）

高純度99.999％・10L／8L C4F6ヘキサフルオロブタジエンガス供給（ハイテク分野／電子機器製造向け）

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半導体製造向け電子グレード純度：当社のC4F6は、5N（99.999％）という超高温純度グレードでご提供可能であり、酸素（O2）、水分（H2O）、炭化水素などの不純物含有量が極めて低く、優れたプラズマ安定性、一貫したエッチング性能、および先進的な半導体デバイス製造に不可欠な高いプロセス再現性を実現します。先進的プラズマエッチング用途に最適化：C4F6は、誘電体エッチング、酸化膜エッチング、ローカー材料のパターニング、および臨界寸法（CD）制御など、高精度プラズマエッチングプロセス専用に設計されており、従来のフッ素系炭化水素ガス（CF4、C2F6、C3F8など）と比較して、優れた選択性、異方性エッチング能力、およびプロファイル精度向上を実現します。これにより、先進ロジック、メモリ、MEMS製造に最適です。地球温暖化係数（GWP）が低い代替ガス：従来のパーフルオロカーボン（PFC）ガスと比較して、C4F6はより高いエッチング効率、低いガス消費量、および低環境負荷を実現し、半導体メーカーが生産性能および収量を維持しつつ、サステナビリティ目標を達成するための支援を行います。厳格な不純物および水分管理：当社では、高度なガス精製システム、高精度分析機器、および厳格な品質管理プロトコルを活用し、水分（H2O）濃度1 ppm以下、酸素（O2）濃度1 ppm以下、全炭化水素濃度1 ppm以下の確保を実現しています。これにより、ウエハー汚染、プラズマ不安定性、およびプロセス欠陥を効果的に防止し、一貫性・信頼性の高い半導体プロセッシング性能を保証します。半導体グレード表面処理済み認証シリンダー：当社のC4F6は、ISO 9809、DOT 3AA、TPED EN規格に準拠した標準47Lおよび10Lサイズ、およびカスタマイズ可能なシリンダー容量にて供給されます。さらに、内部電解研磨およびパッシベーション処理（オプション）を施すことにより、粒子発生を最小限に抑え、ガス汚染を防止し、保管および使用中の超高純度ガス品質を維持します。

当社について

AGEMは2008年に中国台湾を本拠地とするガス機器の多国籍専門メーカーおよびサービスプロバイダーとして設立されました。業界における16年にわたる専門的知見を基盤に、グローバルな事業展開、卓越した製造技術、そして包括的な製品ポートフォリオを有しており、ガス機器分野におけるベンチマーク企業としての地位を確立しています。同社はグローバル化戦略を堅持し、中国本土、中国台湾、インドに近代化された生産拠点を設置し、アジア全域をカバーし、さらに世界へと広がる生産・サービスネットワークを構築しています。各拠点にはスマート生産ラインおよび高精度試験設備が整備されており、原材料加工から完成品出荷に至るまでの全工程を一貫して管理・制御しています。年間生産能力は業界トップクラスを維持しており、グローバルな顧客の多様なニーズに迅速かつ柔軟に対応可能です。主力事業はガス関連コア機器であり、各種産業用ガス、特殊用途ガスバルブ、高圧シリンダー、軽量アルミニウムシリンダー、高精度減圧弁など、幅広い製品ラインナップを展開しています。これらの製品は、化学、電子、医療、エネルギーといった重要分野で広く採用されています。同社は豊かな技術的専門性を活かし、ISO9001品質マネジメントシステム認証およびASME高圧機器認証、EU市場向けCE-PED認証、グローバル適用のIECEx防爆認証など、複数の権威ある国際認証を取得しています。密封性能、耐圧性能、安全保護性能などの主要性能指標は、国際的に先進的な水準に達しています。同社は一貫して技術革新をコア競争力と位置付け、国際的なR&Dチームを編成し、継続的な技術的ブレイクスルーへの投資を推進しています。