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1つの記事で半導体前駆体の応用を理解する

Dec 21, 2023 1

薄膜形成プロセスの主要な原材料として、半導体前駆体にはエピタキシャル成長、化学気相デポジション（Chemical Vapor Material、Deposition、CVDと略される）および原子層デポジション（Atomic Layer Deposition、ALDと略される）プロセスが含まれ、これらは半導体製造に必要なさまざまな薄膜材料を形成するために、半導体製造の様々な分野で使用されます。

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