EN
AR
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
TL
ID
SK
SL
UK
VI
TH
TR
AF
MS
SW
GA
CY
BE
KA
LO
LA
MI
MR
MN
NE
UZ
Გაიგეთ სემიკონდუქტორული პრეკურსორების გამოყენება ერთ სტატიაში
Dec 21, 2023
1
Საფილმო დეპოზიციის პროცესის ძირითად წყაროდან, 반도체 წინაპარებები შეიცავს ეპიტაქსიას, ქიმიურ გარემოს დეპოზიციას (Chemical Vapor Material, Deposition, როგორც CVD) და ატომურ საფარის დეპოზიციას (Atomic Layer Deposition, როგორც ALD), რომლებიც ფორმირებს განსხვავებულ საფილმო მასალებს, რომლებიც საჭიროა სემიკონდუქტორების შემუშავებისთვის და გამოიყენება სემიკონდუქტორების შემუშავების განსხვავებულ სფეროებში.
