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반도체 및 태양광 등급 실리콘 제조용 고순도 99.99% 트라이클로로실란(SiHCl₃)

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제품 설명

SiHCl3 가스
삼염화실리콘(HSiCl3)은 자극적인 냄새가 나는 무색 휘발성 액체입니다. 물 및 습한 공기와 특히 매우 반응성이 강합니다.
물과 습한 공기와 반응하여 염화수소 가스를 방출한다. 트리클로로실란은 주로 반도체 및 태양광 산업용 고순도 실리콘 제조에 사용된다. 이는 폴리실리콘 및 다양한 유기실리콘 화합물 제조의 핵심 중간체이다.
트리클로로실란 가스/SiHCl3 가스
적용 분야

폴리실리콘 제조

이것이 주요 용도이다. 정제 및 화학 반응을 통해 태양전지 및 반도체 칩 제조의 핵심 기초 소재인 고순도 폴리실리콘을 생산하는 데 사용된다.

에피택셜 성장


반도체 제조 공정에서 실리콘 원료 가스로 사용되어 웨이퍼 표면에 고품질 단결정 실리콘 박막(에피택셜 층)을 성장시킴으로써 소자의 성능을 향상시킨다.

실란 합성


이 물질은 반도체 및 광전지 산업에서 널리 사용되는 보다 고순도의 실란(SiH₄) 가스를 추가로 합성하기 위한 핵심 중간체이다.
사양

MOQ: 1개
실린더 유형: 2.2L, 40L, 47L, 50L, 118L, 926L, ISO 탱크
응용 분야:
폴리실리콘 제조
에피택셜 성장
실란 합성

당사가 약속드리는 사항:

1. 고품질 및 안전한 가스 실린더
2. 시장 최고의 가격
3. 신속한 납기(3~4주)

주요 제품:

1. 가스 제품: 초고순도 산소(UHP 산소), 아르곤, 헬륨, 일산화탄소(CO), 메탄, 아세틸렌, 액체산소(LO₂), 액체질소(LN₂), 액체이산화탄소(LCO₂) 등
2. 모든 종류의 고압 가스 용기 및 용접식 가스 용기:
산소 용기(GB 5099/ISO 9809-3/DOT/EN 표준 가스 용기)
3. 액체 질소 용기: 2L에서 50L까지의 모든 종류 액체 질소 용기
4. 극저온 액체 드워 탱크: 용량 175L, 195L, 210L, 495L
5. 액체 저장 탱크: 5M³, 10M³, 20M³, 30M³, 50M³, 100M³, 200M³ 등
6. 가스 장비: 기화기, 매니폴드, 가스 충전 펌프 등
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