EN
AR
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
TL
ID
SK
SL
UK
VI
TH
TR
AF
MS
SW
GA
CY
BE
KA
LO
LA
MI
MR
MN
NE
UZ
- Oversikt
- Spørre
- Relaterte produkter
For Semiconductor Process Plasma Deposition Gas And Etchant 99.9% C318 Perfluorocyclobutane Kjølesubstans Gass C4F8
I produksjonen av halvledermaterialer og -enheter fungerer oktafluorocyclobutan som avlagningsgass og etchant. Den har også blitt undersøkt som en kjølesubstans i spesialtilpassede anvendelser, som erstatning for ozonforurende klorofluorokarbonbaserte kjølesubstanser. Ved å utnytte dens volatilitet og kjemiske inerts, kan oktafluorocyclobutan finnes i noen aerosolbaserte matvarer. Den er oppført av Codex Alimentarius under nummer 946 (E946 for EU). Den undersøkes som en mulig erstatning for sulfurhexafluorid som en dielektrisk gass.
C4F8, HALOCARBON C318 99.8% G 10LBS, C4F8, Halvlederprosessgass, Brukbar i: Elektronikk, Halvlederprosess, Dopant, Etchant, Reaktant, Fabrikasjon, Reaktorer, Silisium-Forkjøper, Gasser, Rengjøring, Ren, Standarder, Kjølesubstanser - HA C3183.
