Półprzewodniki znajdują się we wszystkim, od Twoich smartfonów i komputerów osobistych po każdy inny rodzaj elektronicznego gadżetu. Muszą być produkowane za pomocą określonego procesu i wykorzystują wiele gazów. Poniżej przedstawiono opis wielu rodzajów gazów używanych przez jedną przemysłową firmę oraz jak te wysokotechnologiczne substancje są przeznaczone do tworzenia rzeczy, na które naprawdę się polegamy. Różnorodne gazy stosowane w produkcji półprzewodników. Półprzewodniki powstają w wyniku złożonego ciągu procesów, takich jak etczowanie, depozycja i czyszczenie. Różne właściwości i zastosowania tych gazów różnią się w zależności od konkretnego użytku lub warunków atmosferycznych, czy to wśród dostawców przemysłowych gazów, specjalistycznych dostawców gazów półprzewodnikowych, czy w laboratorium, oferując szeroki zakres odpowiedni dla wszystkich nich z niezbędnymi cechami niezbędnymi do wykonania zadania zgodnie z oczekiwaniami. W związku z tym, w ramach dzisiejszego omówienia, przedstawiamy kilka prowadzących gazów stosowanych w procesach produkcji materiałów. Silan SiH4: Ten gaz jest kolorowy i również reprezentowany jako istotny materiał elektroniczny oparty na silikonie. Znany jest z bardzo dynamicznego działania i szybko reaguje z tlenem i wodą, tworząc tlenek silikonu SiO i gaz wodorowy. Silan może być używany do umieszczania materiału opartego na silikonie, takiego jak SiNx, albo szybko, albo przy stosunkowo niskiej temperaturze. Element azot N2: Ten gaz jest nieaktywny i zapobiega utlenianiu. Jest ciągle produkowany i wymagany do spłukiwania urządzenia w procesie konserwacji w celu usunięcia napływu O2 i wilgoci. Taki gaz będzie również używany do wspierania i transportowania działań innych gazów, działa jako nośnik gazowy w depozycji par niklowych oraz w plazmowej zintensyfikowanej depozycji par niklowych.
Wodór (H2) - Wodór jest wykorzystywany jako gaz redukujący do usuwania nieczystości z materiałów. W produkcji półprzewodników jest to ważny krok w wielu procesach, takich jak annealing i czyszczenie. Ponadto wodór służy do tworzenia metalowych bramek potrzebnych do produkcji zaawansowanych urządzeń CMOS.
Stabilny tlen (O2/O) - wprowadź arkusze i terminy specyfikacji itp. Gaz tlen while Tlen jest wykorzystywany w wielu procesach plazmowych, takich jak etching i strip/ash, a także działa jako reagent utleniający materiały na bazie krzemu do postaci SiOx lub pasywujący powierzchnie metalowe poprzez utlenianie.
Chlor (Cl2): Chlor jest żółtym lub czerwonym dymiącym, nietrwałym niemetallem o przenikliwym zapachu w stanie ciekłym. Ten gaz, który jest bardzo reaktywny z materiałami na bazie krzemu, dwutlenkiem krzemu oraz wieloma metalami, takimi jak aluminium, znalazł zastosowanie w etczaniu struktur półprzewodnikowych.
Fakt, że gazy są wykorzystywane w produkcji półprzewodników, doprowadził do stworzenia wysokowartościowych elektroniki, jaką umożliwia zwiększone możliwości produkcyjne półprzewodników. Gazy mają również kilka istotnych zastosowań i zalet w przemyśle półprzewodnikowym.
Gazy takie jak silan, amonia i azot są używane do nanoszenia tlenku lub nitrydu krzemu, które będą cienkimi warstwami półprzewodników. Nanoszenie.
Etching: Używane jest do selektywnego usuwania niepożądanych materiałów lub wzorów z półprzewodników za pomocą gazów takich jak chlor, fluor i tlen.
Procesowe gazy: Wodór i azot są potrzebne do działania sprzętu do czyszczenia półprzewodników (oczyszczanie), aby zmniejszyć nieczystości, które mogą wpływać na wydajność urządzenia.
Przepychanie: Jednym z jego głównych zastosowań jest działanie jako gaz przepychający podczas prowadzenia prac konserwacyjnych na urządzeniach, co pozwala usunąć tlen i wilgoć z systemu, zachowując materiały w linii wolne od nich.
W rezultacie, poszukiwania coraz bardziej zaawansowanych materiałów i procesów nie mają końca wraz z postępem przemysłu półprzewodnikowego. Poprawione gazy są kluczowe dla nadchodzących rozwojów w technologii półprzewodników. Oto kilka z tych high-tech gazów stosowanych w produkcji półprzewodników:
Fluorki węgla: Powód, dla którego fluorylowane gazy są idealne do produkcji najnowszych projektów obwodów, to ich agresywne i selektywne reagowanie zarówno podczas etchingu (usuwanie elementów), jak i depozycji (dodawanie części).
CO2 - Gaz inercyjny używany w aplikacjach takich jak spalanie, CVD i czyszczenie.
Podczas gdy powinno to być traktowane jako krok naprzód w produkcji półprzewodników, wyłącznie ze względu na nowe systemy dostarczania dostępne dzisiaj. Producenci stale szukają sposobów na poprawę efektywności, zmniejszenie marnotrawstwa i zwiększenie bezpieczeństwa. Poniżej wymieniono niektóre z najnowszych zaawansowanych gazów i systemów dostarczania chemikaliów.
System dostawy gazu (dla gazów, które precyzyjnie kontrolują małe ilości chemikaliów gazowych / ciekłych potrzebnych w półprzewodnikach)
Źródło: Zaawansowane systemy czyszczenia talerzy mokrymi metodami, plazmą ozonową i wodorem peroksydanowym jako najefektywniejsze sposoby usuwania nieczystości z materiału półprzewodnikowego.
Gazy półprzewodnikowe mogą generować zapotrzebowanie na bardziej wydajne elektronikę, ale jednocześnie stanowią poważne zagrożenie dla środowiska. Wprowadzono pewne programy zmierzające do redukowania odpadów i recyklingu gazów oraz innych substancji w przemyśle półprzewodnikowym. To nie jest niczym innym niż to, jak producenci starają się uspokoić obawy środowiskowe związane z gazami półprzewodnikowymi;
Pierwszym i najbardziej bezpośredniem jest Redukcja Odpadów -> Producentowie zawsze szukają sposobów na zmniejszenie ilości odpadów powstałych podczas produkcji półprzewodników. Dotyczy to takich rzeczy jak ograniczanie ilości używanych chemikaliów i gazów, ich recykling tam, gdzie to możliwe, lub tworzenie zamkniętych systemów cyrkulacji.
Re-cykling gazów i chemikaliów będzie jeszcze jedną kluczową metodą, która przyczyni się do zmniejszenia skutków środowiskowych. Wytworzenie odpadów może być znacznie łatwiej zminimalizowane przez producentów, którzy pozwalają na odzyskiwanie, oczyszczanie i recykling gazów lub chemikaliów używanych podczas produkcji.
Podsumowanie: Gaz jest niezbędny do produkcji niektórych z najlepszych elektroniki dostępnej obecnie. Producyenci są poświęceni poprawie zarówno zaawansowanych gazów, jak i rozwiązań dostawczych, które sprzyjają optymalnym procesom, redukcji odpadów i bezpieczeństwu społeczności. Sektor półprzewodników również pójdzie drogą zmniejszania zużycia gazów - a ogólny wpływ środowiskowy tych gazów wywołał wiele kampanii na rzecz zrównoważonego rozwoju w ostatnich latach.
AGEM to zakład produkcyjny i badawczo-rozwojowy gazów z siedzibą na Tajwanie, posiadający ponad 25-letnie doświadczenie w dziedzinie badań i rozwoju, z wyjątkową wiedzą w zakresie gazów elektronicznych, kalibracyjnych i specjalistycznych na całym świecie, w sześciu oddzielnych regionach: Tajwan - Miasto Kaohsiung (Siedziba, Centrum Badań i Rozwoju), Indie - Mumbaj, Wadodara, Kozjbator, Pune, Bengaluru, Delhi, Chiny - Wuhan, Bliski Wschód - Dubaj (Zjednoczone Emiraty Arabskie) i Królestwo Arabii Saudyjskiej, Wielka Brytania - Cambridge. Oferta gazowa obejmuje wsparcie techniczne, montaż i uruchamianie, testowanie próbek, pakowanie i wysyłanie, projektowanie rysunków oraz produkcję.
W przypadku gazów stosowanych w produkcji półprzewodników wyciek gazów stanowi jedno z największych zagrożeń, dlatego przeprowadzamy testy szczelności ponad pięć razy, aby zagwarantować wysoką jakość. Dysponujemy pełnofunkcyjną linią produkcyjną z surową kontrolą jakości oraz kompleksowym systemem usług posprzedażowych. Dzięki temu naszym klientom gwarantujemy produkty najwyższej klasy. Dumnie podkreślamy naszą zaangażowanie w doskonałość i obsługę klienta. Nasz wykwalifikowany zespół specjalistów jest zawsze gotów udzielić wsparcia i zapewnić spełnienie Państwa wymagań. Nasza obsługa 24/7 wyróżnia nas na tle konkurencji. Jestemy dostępni dla naszych klientów w każdej chwili.
AGEM oferuje szeroki wybór cylindrów kriogenicznych, które mogą obsługiwać powszechne ciecze i gazy superchłodzone, takie jak tlen ciekły, argon, dwutlenek węgla, azot i azotan tlenowy. Wykorzystujemy zaimportowane zawory i sprzęt, aby zapewnić najwyższą wydajność. Urządzenia oszczędzające gaz są stosowane, a nadmiarowy gaz otrzymuje priorytet w obszarze fazy gazowej. Podwójny zawór bezpieczeństwa zapewnia solidne gwarancje bezpiecznego działania. Dysponujemy różnorodnymi cylindrami kriogenicznymi, które mogą przechowywać powszechnie występujące ciecze superchłodzone: Pełna pojemność: 80L/100L/175L/195L/210L/232L/410L/500L/1000L Ciśnienie pracy: 1.37MPa/2.3MPa/2.88MPa/3.45MPa Temperatura projektowa zbiornika wewnętrznego: (-196°C) Temperatura projektowa zbiornika zewnętrznego: 50°C/+20°C Izolacja: Wielowarstwowa izolacja próżniowa Środki magazynowane: LO2, LN2, LAr, LCO2, LNG
AGEM rozumie, że każdy klient wymaga innych rzeczy w zakresie gazów specjalistycznych, takich jak gaz kalibracyjny. Ofiarowujemy rozwiązania na miarę, aby spełnić konkretne potrzeby naszych klientów. Jeśli potrzebujesz określonej czystości, rozmiaru butli lub opcji opakowania, AGEM może współpracować z tobą, aby dostosować swoje produkty do twoich dokładnych wymagań. Ten stopień dostosowania zapewni, że otrzymasz najlepszy cylindra gazu kalibracyjnego dla swoich zastosowań, co poprawi ogólną wydajność i wydajność. Oferta produktów AGEM nie ogranicza się do gazów kalibracyjnych. Katalog AGEM obejmuje Gazy Węglowodanowe, Halokarbony, Gazy Chemiczne i Gazy Rzadkie. Możesz być pewien, że AGEM posiada konkretny rodzaj gazu, który potrzebujesz.
AIR GAS ELECTRONIC MATERIALS (AGEM) to zakład produkcyjny i badawczo-rozwojowy znajdujący się na Tajwanie, posiadający wyjątkową ekspertyzę w dziedzinie gazów specjalnych, elektronicznych, masowych i kalibracyjnych na całym świecie w 6 różnych regionach
Pokój 1002, budynek A, Huangzhong International Plaza, nr 182 Huangxiaohe Road, dzielnica Jiangan, Wuhan 430014, Chiny
Prawa autorskie © Air Gas Electronic Materials Enterprise Co., Ltd. Polityka prywatności
EN
AR
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
TL
ID
SK
SL
UK
VI
TH
TR
AF
MS
SW
GA
CY
BE
KA
LO
LA
MI
MR
MN
NE
UZ
