Wszystkie kategorie

Produkty

Strona Główna >  Produkty

Zasilanie gazem C4F6 (heksafluorobutadien) o wysokiej czystości (99,999 %), w pojemnościach 10 l i 8 l, przeznaczone do zastosowań technologicznych w elektronice i przemyśle elektronicznym

  • Przegląd
  • Zapytanie
  • Produkty powiązane

O produkcie

Wyświetlony

Czystość klasy elektronicznej do produkcji półprzewodników: Nasz C4F6 jest dostępny w stopniach ultra wysokiej czystości aż do klasy 5N (99,999 %), charakteryzujących się wyjątkowo niskimi poziomami zanieczyszczeń, w tym tlenu (O2), wilgoci (H2O) oraz węglowodorów, zapewniając doskonałą stabilność plazmy, spójną wydajność trawienia oraz wysoką powtarzalność procesu – cechy niezbędne do zaawansowanej produkcji urządzeń półprzewodnikowych. Optymalizowany do zaawansowanych zastosowań trawienia w plazmie: C4F6 został specjalnie zaprojektowany do precyzyjnych procesów trawienia w plazmie, w tym trawienia dielektryków, warstw tlenkowych, wzorowania materiałów o niskiej stałej dielektrycznej (low-k) oraz kontroli krytycznych wymiarów (CD), oferując doskonałą selektywność, zdolność do trawienia anizotropowego oraz poprawną dokładność profilu w porównaniu z konwencjonalnymi gazami fluorowęglowymi, takimi jak CF4, C2F6 i C3F8 – co czyni go idealnym rozwiązaniem do zaawansowanej produkcji układów logicznych, pamięci oraz układów MEMS. Alternatywa o niskim potencjale ocieplenia globalnego (GWP): W porównaniu z tradycyjnymi gazami perfluorowęglowymi C4F6 zapewnia wyższą wydajność trawienia, niższe zużycie gazu oraz mniejszy wpływ na środowisko, wspierając producentów półprzewodników w osiąganiu celów z zakresu zrównoważonego rozwoju przy jednoczesnym utrzymaniu wysokiej wydajności produkcyjnej i współczynnika wytwarzania. Ścisła kontrola zanieczyszczeń i wilgoci: Wykorzystujemy zaawansowane systemy oczyszczania gazów, precyzyjne instrumenty analityczne oraz rygorystyczne protokoły kontroli jakości, zapewniające zawartość wilgoci (H2O) ≤ 1 ppm, tlenu (O2) ≤ 1 ppm oraz całkowitej ilości węglowodorów ≤ 1 ppm, skutecznie zapobiegając zanieczyszczeniom krzemowych płytek, niestabilności plazmy oraz wadom procesowym, co gwarantuje spójną i niezawodną wydajność przetwarzania półprzewodników. Cylindry certyfikowane z obróbką powierzchniową klasy półprzewodnikowej: Nasz C4F6 jest dostarczany w standardowych pojemnościach cylindrów 47 L i 10 L oraz w wersjach niestandardowych, wyprodukowanych zgodnie z normami ISO 9809, DOT 3AA oraz TPED EN, z opcjonalną elektropoleracją i pasywacją wnętrza cylindra w celu minimalizacji generowania cząstek, zapobiegania zanieczyszczeniom gazu oraz utrzymania ultra wysokiej czystości gazu podczas przechowywania i użytkowania.
Specifications Scene image Specifications Scene image Specifications Scene image Scene image

O nas

AGEM została założona w 2008 roku jako wielonarodowy profesjonalny producent i dostawca sprzętu gazowego, z siedzibą w Tajwanie, Chiny. Dzięki 16-letniemu doświadczeniu branżowemu jej globalne obecność, wysoka jakość produkcji oraz kompleksowa oferta produktowa umocniły jej pozycję jako przedsiębiorstwa wzorcowego w sektorze sprzętu gazowego. Firma realizuje strategię rozwoju globalnego, zakładając nowoczesne zakłady produkcyjne na kontynencie chińskim, w Tajwanie, Chinach oraz w Indiach, tworząc sieć produkcji i obsługi obejmującą Azję i rozciągającą się na skalę światową. Każdy z tych zakładów jest wyposażony w inteligentne linie produkcyjne oraz precyzyjne urządzenia do testowania, umożliwiając kontrolę pełnego cyklu produkcyjnego – od przetwarzania surowców po dostarczenie gotowego produktu. Przy rocznej zdolności produkcyjnej systematycznie plasującej się wśród liderów branży firma może szybko reagować na różnorodne potrzeby klientów na całym świecie. Główne obszary działalności koncentrują się na kluczowym sprzęcie gazowym, obejmującym pełną gamę produktów, takich jak różne gazy przemysłowe, specjalistyczne zawory gazowe, butle wysokociśnieniowe, lekkie butle aluminiowe oraz wysokoprecyzyjne reduktory ciśnienia. Produkty te znajdują szerokie zastosowanie w kluczowych sektorach, takich jak przemysł chemiczny, elektronika, opieka zdrowotna oraz energetyka. Korzystając z głębokiej wiedzy technicznej, produkty uzyskały certyfikat Systemu Zarządzania Jakością ISO 9001 oraz wiele autorytetowych międzynarodowych certyfikatów, w tym certyfikat ASME dla sprzętu wysokociśnieniowego, certyfikat CE-PED zapewniający dostęp do rynku unijnego oraz certyfikat IECEx w zakresie ochrony przed wybuchem przeznaczony do zastosowań na całym świecie. Kluczowe wskaźniki wydajności, takie jak właściwości uszczelniające, odporność na ciśnienie oraz funkcje ochrony bezpieczeństwa, osiągnęły poziom międzynarodowy standardu zaawansowania. Firma konsekwentnie stawia innowacje technologiczne w centrum swojej konkurencyjnej przewagi, tworząc międzynarodowy zespół badawczo-rozwojowy oraz systematycznie inwestując w technologiczne przełomy.
Customization capabilities Factory profile Competitive advantages Company overview Factory profile

Najczęściej zadawane pytania

Jakie stopnie czystości C4F6 oferujecie?

Oferujemy C4F6 w klasie półprzewodnikowej, w tym stopień 4N (99,99 %), 4,5N (99,995 %) oraz 5N (99,999 %). Wyższe stopnie czystości są dostępne na żądanie.

Jakie są typowe zastosowania C4F6?

C4F6 jest głównie stosowany w procesach plazmowego trawienia w przemyśle półprzewodnikowym, trawieniu warstw dielektrycznych, trawieniu tlenków, trawieniu dielektryków o niskiej stałej dielektrycznej (low-k), produkcji układów MEMS oraz zaawansowanej produkcji układów scalonych.

Jakie rozmiary butli są dostępne?

Standardowe opakowania obejmują butle o pojemności 47 L, 10 L, 8 L oraz butle niestandardowe na żądanie. Dla zastosowań półprzewodnikowych dostępna jest elektropolerowanie wnętrza butli.

Jaka jest typowa ciśnienie napełnienia i masa napełnienia?

Typowe parametry napełniania obejmują ciśnienie napełnienia do 13–15 MPa oraz masę napełnienia wynoszącą około 20–25 kg w butli o pojemności 47 L. Dokładna masa napełnienia zależy od stopnia czystości oraz wymagań klienta.

Jakiego typu zawór jest stosowany w butlach z C4F6?

Typowe typy zaworów obejmują CGA 716, DISS 716 oraz zawory dostosowane do przemysłu półprzewodnikowego. Dobór zaworów można dostosować zgodnie ze standardami obowiązującymi w danym regionie

W jaki sposób zapewniacie czystość i stabilność gazów?

Zapewniamy jakość za pomocą zaawansowanych systemów oczyszczania gazów, technologii usuwania wilgoci i tlenu, analizy chromatograficznej gazów (GC) oraz certyfikatu analizy (COA), który dostarczamy razem z każdą butelką

Jaki jest czas realizacji zamówienia?

Typowy czas dostawy wynosi od 15 do 25 dni roboczych od daty otrzymania zaliczki. Szybsza dostawa jest możliwa w zależności od dostępności zapasów i gotowości butelek

Z jakimi certyfikatami są zgodne Wasze butelki?

Nasze butelki są zgodne ze standardami ISO 9809, DOT 3AA, TPED oraz EN. Inspekcja przez stronę zewnętrzną jest możliwa na żądanie

Skontaktuj się z nami