Полупроводники есть во всем: от ваших смартфонов и персональных компьютеров до любых других типов электронных устройств. Их необходимо производить через определенный процесс, используя множество газов. Ниже приведен обзор различных видов газов, которые использует только одна промышленность, и как эти высокотехнологичные вещества используются для создания вещей, на которые мы действительно полагаемся. Различные типы газов, используемых в производстве полупроводников. Полупроводники создаются с использованием сложного ряда процессов, таких как травление, нанесение покрытий и очистка. Различные свойства и применения этих газов различаются в зависимости от конкретного использования или атмосферных условий, будь то у поставщиков промышленных газов, специализированных поставщиков газов для полупроводников или в лаборатории, предоставляя широкий спектр, подходящий для всех них с необходимыми характеристиками для выполнения задачи удовлетворительно. На сегодняшний день мы представляем несколько ведущих газов, используемых в процессах производства материалов. Силан SiH4: Этот газ бесцветный и также известен как важный кремниевый электронный материал. Он очень активен и быстро реагирует с кислородом и водой, образуя диоксид кремния SiO и водород. Силан может использоваться для нанесения кремниевых материалов, таких как SiNx, либо быстро, либо при относительно низкой температуре. Азот N2: Этот газ инертен и предотвращает окисление. Он постоянно производится и необходим для продувки устройства в процессе обслуживания для удаления выбросов O2 и влаги. Такой газ также используется для поддержки и транспортировки других газов, работает как носительский газ в процессе паровой депозиции никелевого хрома и плазменной паровой депозиции никелевого хрома.
Водород (H2) - Водород используется как восстановительный газ для удаления примесей из материалов. В производстве полупроводников это важный этап нескольких процессов, таких как отжиг и очистка. Кроме того, водород применяется для создания металлических затворов при производстве передовых КМОП-устройств.
Стабильный кислород (O2/O) - введите листы и специфические сроки поставок и т.д. Газ O. Хотя кислород используется во многих плазменных процессах, таких как травление и очистка/удаление photoresist'a, он также служит реагентом для окисления силиконовых материалов до SiOx или пассивации металлических поверхностей через окисление.
Хлор (Cl2): Хлор является желтым или красным дымящимся, неметаллическим веществом с резким запахом в жидком состоянии. Этот газ, который очень реактивен с силиконовыми материалами, двуокисью кремния и многими металлами, такими как алюминий, нашел множество применений в травлении структур полупроводников.
Факт использования газов в производстве полупроводников привел к созданию высококачественной электроники, поскольку увеличилась производственная мощность полупроводников. Газы также имеют несколько значительных применений и преимуществ в полупроводниковой промышленности.
Газы, такие как силан, аммиак и азот, используются для нанесения диоксида кремния или нитрида, которые станут тонкими пленками полупроводников. Нанесение.
Этching: Используется для выборочного удаления нежелательных материалов или шаблонов с полупроводников с использованием газов, таких как хлор, фтор и кислород.
Процессные газы: водород и азот необходимы для работы оборудования для очистки полупроводников (очистка), чтобы снизить примеси, которые могут повлиять на производительность устройства.
Промывка: Одним из его основных применений является использование в качестве газа для промывки во время проведения технического обслуживания оборудования, что удаляет кислород и влагу из системы, поддерживая материалы в линии свободными от загрязнений.
В результате, поиск всё более сложных материалов и процессов не имеет конца по мере развития полупроводниковой промышленности. Улучшенные газы являются ключевыми для будущих достижений в области полупроводников. Вот некоторые из этих высокотехнологичных газов, используемых в производстве полупроводников:
Фторуглероды: Причина, по которой фторсодержащие газы отлично подходят для создания передовых схем, заключается в их агрессивной и избирательной реакции как при травлении (удалении частей), так и при нанесении (добавлении частей).
CO2 - Инертный газ, используемый для таких применений, как спекание, химическое парофазное осаждение (CVD) и очистка.
Несмотря на то, что это следует рассматривать как шаг вперёд в производстве полупроводников, исключительно благодаря новым системам доставки, которые возможны сегодня. Производители постоянно ищут способы повысить эффективность, снизить отходы и увеличить безопасность. Ниже перечислены некоторые из самых новых передовых газов и систем химической подачи, доступных сейчас.
Система подачи газа (для газов, которые точно контролируют небольшие количества газообразных или жидких химикатов, необходимых в полупроводниках)
Источник: Современные системы влажной очистки кремниевых пластин с использованием озонового плазменного и пероксидно-водородного методов для наиболее эффективного удаления примесей из материала полупроводников.
Полупроводниковые газы могут стимулировать спрос на более эффективную электронику, но также представляют опасные экологические угрозы. Существуют некоторые программы по снижению отходов и повторному использованию газов в полупроводниковой промышленности. Это не отличается от того, как производители работают над устранением экологических опасений, связанных с полупроводниковыми газами;
Первая и самая прямая — это сокращение отходов -> Производители всегда ищут способы уменьшить количество отходов, образующихся при производстве полупроводников. Например, снижение количества используемых химикатов и газов, их переработка там, где это возможно, или создание замкнутых систем.
Повторное использование и переработка газов и химикатов станет еще одним ключевым методом, который поможет снизить воздействие на окружающую среду. Производители могут значительно уменьшить образование отходов за счет восстановления, очистки и повторного использования газов или химикатов, применяемых в процессе производства.
Краткое содержание: Газы являются неотъемлемой частью для производства некоторых из самых передовых электронных устройств. Производители стремятся улучшить как современные газы, так и решения по их доставке, способствуя оптимальным процессам, снижению отходов и обеспечению безопасности сообщества. Сектор полупроводников также будет постепенно снижать потребление газов, а общий экологический след этих газов запустил множество кампаний по устойчивому развитию в последние годы.
AGEM — это завод по производству газа и исследовательский центр, расположенный в Тайване, с более чем 25-летним опытом в области исследований и разработок в этой отрасли, обладающий беспрецедентными знаниями в области специальных электронных массовых, калибровочных и специальных газов во всем мире в шести различных регионах: Тайвань — город Каохsiунг (штаб-квартира, центр НИОКР) Индия — Мумбаи, Вадодара, Коимбатор, Пуна, Бангалор, Дели Китай — Ухань Ближний Восток — Дубай (ОАЭ) и Королевство Саудовская Аравия Великобритания — Кембридж Решения по газу, предлагаемые нами, включают техническое консультирование. Сборку и пуско-наладку. Тестирование образцов. Упаковку и доставку. Разработку чертежей. Производство.
Для газов, используемых в производстве полупроводников, утечка газа является одной из самых серьёзных проблем; поэтому мы проводим испытания на герметичность более пяти раз, чтобы гарантировать высокое качество продукции. У нас имеется полностью функционирующая производственная линия со строгим контролем качества и комплексная система послепродажного обслуживания. Это гарантирует, что наши клиенты получают продукцию высочайшего качества. Мы гордимся своей приверженностью совершенству и высокому уровню сервиса. Наши высококвалифицированные специалисты всегда готовы оказать вам поддержку и обеспечить выполнение всех ваших требований. Наше круглосуточное обслуживание выделяет нас среди конкурентов. Мы всегда на связи с нашими клиентами.
AGEM предлагает широкий ассортимент криогенных цилиндров, которые могут использоваться для хранения распространенных сверхохлажденных жидкостей и газов, таких как жидкий кислород, аргон, углекислый газ, азот и закись азота. Мы используем импортные клапаны и оборудование, чтобы обеспечить высочайшую производительность. Применяются устройства экономии газа, приоритет отдается защите от перегрева газа в газовой фазе. Двойной предохранительный клапан обеспечивает надежную гарантию безопасной эксплуатации. У нас есть различные криогенные цилиндры, которые могут хранить распространенные сверхохлажденные жидкости: Полный объем: 80Л/100Л/175Л/195Л/210Л/232Л/410Л/500Л/1000Л Рабочее давление: 1.37МПа/2.3МПа/2.88МПа/3.45МПа Температура проектирования внутреннего бака: (-196°C) Температура проектирования наружного бака: 50°C/+20°C Теплоизоляция: многослойная вакуумная изоляция Хранимая среда: ЖО2, ЖН2, ЖАр, ЖСО2, ЖГ
AGEM понимает, что каждый клиент требует разных решений в области специальных газов, таких как калибровочные газы. Мы предлагаем индивидуальные решения для удовлетворения конкретных потребностей наших клиентов. Если вам требуется определенная степень чистоты, размер баллона или варианты упаковки, AGEM может работать с вами для адаптации своих продуктов под ваши точные требования. Такой уровень настройки гарантирует, что вы получите лучший баллон калибровочного газа для ваших приложений, что повысит общую эффективность и производительность. Ассортимент продукции AGEM не ограничивается калибровочными газами. Каталог AGEM включает углеводородные газы, халокарbons, химические газы и редкие газы. Вы можете быть уверены, что AGEM имеет именно тот тип газа, который вам нужен.
AIR GAS ELECTRONIC MATERIALS (AGEM) — это завод по производству и разработке газов, расположенный на Тайване, обладающий уникальной экспертизой в области специальных, электронных, массовых и калибровочных газов по всему миру в шести разных регионах
Комната 1002, здание A, международный плаза Хуанчжун, улица Хуансяохэ, 182, район Цзяньгань, Ухань, 430014, Китай
Авторские права © Air Gas Electronic Materials Enterprise Co., Ltd. Политика конфиденциальности
EN
AR
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
TL
ID
SK
SL
UK
VI
TH
TR
AF
MS
SW
GA
CY
BE
KA
LO
LA
MI
MR
MN
NE
UZ
