เข้าใจการใช้งานของสารกึ่งตัวนำในบทความเดียว
ในฐานะวัสดุดิบหลักของกระบวนการเคลือบฟิล์มบาง พรีเคอเรนต์สำหรับกึ่งตัวนำรวมถึงกระบวนการ epitaxy การเคลือบด้วยไอน้ำเคมี (Chemical Vapor Material, Deposition เรียกว่า CVD) และการเคลือบด้วยชั้นอะตอม (Atomic Layer Deposition เรียกว่า ALD) เพื่อสร้างวัสดุฟิล์มบางหลากหลายชนิดที่จำเป็นสำหรับการผลิตกึ่งตัวนำ ใช้งานในหลากหลายสาขาของการผลิตกึ่งตัวนำ
EN
AR
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
TL
ID
SK
SL
UK
VI
TH
TR
AF
MS
SW
GA
CY
BE
KA
LO
LA
MI
MR
MN
NE
UZ