Газове обладнання

Всі

• Газова Мішанка

  • Газ Лазера Excimer/Arf Premix Gas

• Етчуючі Речовини

  • GeH4
  • SiH4
  • SiF4
  • BF3
  • HBR
  • N2O
  • WF6
  • SO2
  • SF6

• Реагенти

  • NO,Нітритний Оксид
  • H2S
  • CO,Монооксид Вуглецю
  • NH3
  • HCL

• Гідрокарбони

  • C2H2
  • C3H8
  • CH4
  • C2H6
  • C3H6
  • C2H4
  • ЕО/ETO

• Гази Загальні ТаРідкісні

  • О2
  • CO2
  • Водень
  • N2
  • Ксенон
  • Неон
  • Криптон
  • Гелій
  • Аргон
  • CL2

• Галокарбони

  • C5F8
  • R508B
  • CHF3
  • C4F8
  • CH3F
  • C2F6
  • C4F6
  • CH2F2
  • CF4
  • C3F8

• Холодильний Газ

  • R290
  • R170
  • R508B

• Газове Обладнання

  • Насос
  • Стійка Для Циліндрів
  • Газовий Шаф
  • Регулятор Кисню
  • ВМБ
  • Бак ISO
  • Кришка Циліндра
  • Кран
  • Алюмінієвий Циліндр
  • Стальовий Циліндр

• Інші Хімічні Речовини

  • Зарядка Кремом
  • AlH3