Pob Categori
ENEN

Newyddion

Hafan >  Newyddion

Yn ôl

Deall ymateb precursorau semiconductor mewn un erthygl

Dec 21, 2023 1

Fel y materialedd gwreiddiol cynradd ar gyfer broses cyflwr llwch, cynnwysant precursors semiconductus epitaxy, cyfrifer depositio (Chemical Vapor Material, Deposition, a elwir yn CVD) a phrosesau depositio lyf amrediad atomig (Atomic Layer Deposition, a elwir yn ALD) i ddatblygu materialedd film lledd trethol angenrheidiol ar gyfer cynhyrchu semiconductor, defnyddwyd mewn brynhawn amrywiol o ganlyniadur semiconductor.

Llai

Ardal Helium Llydodig yn 2023

Pob

Dim

Nesaf
Cynnyrchau Cyfrifol
CH3SH 4L/8L/10L/40L cylindr

CH3SH 4L/8L/10L/40L cylindr
COS 4L/8L/10L/40L a chynhwysion eraill o gylch

COS 4L/8L/10L/40L a chynhwysion eraill o gylch
C5H10 4L/8L/10L/40L CYLINDER 118L TANK

C5H10 4L/8L/10L/40L CYLINDER 118L TANK
C4H10 99%-99.99% 47L CYLINDER 926L 118L TANK

C4H10 99%-99.99% 47L CYLINDER 926L 118L TANK
Gas Cymysgedd Xenon i ddefnyddio yn Goleuo Plasma 20L 50L 100L Ffryn Gas Xenon

Gas Cymysgedd Xenon i ddefnyddio yn Goleuo Plasma 20L 50L 100L Ffryn Gas Xenon
Gwerth pureiddio 99.9% 99.9999% 99.99999% NH3 Ammonia Anhidrau Llyfain Ammonia

Gwerth pureiddio 99.9% 99.9999% 99.99999% NH3 Ammonia Anhidrau Llyfain Ammonia
Tanffor Cryogenig Aisen Inox 210 Llitr Ogen Llyfain Nitrogen Argon CO2

Tanffor Cryogenig Aisen Inox 210 Llitr Ogen Llyfain Nitrogen Argon CO2
Ar gyfer Win Coch Defnydd Grwydo 99.9% Pwysedd Gas SO2 Sulfwr Dioxide Gas TANK

Ar gyfer Win Coch Defnydd Grwydo 99.9% Pwysedd Gas SO2 Sulfwr Dioxide Gas TANK
Gradd Diwydiannol 99.9% Gas Monocsid Carbon yn cael ei Llenwi mewn Ceubren 40L ar gyfer Pysgoteg CO Gas Ceubren

Gradd Diwydiannol 99.9% Gas Monocsid Carbon yn cael ei Llenwi mewn Ceubren 40L ar gyfer Pysgoteg CO Gas Ceubren

Newyddion Poeth

Pori'r holl cynnigion Pori'r holl cynnigion