EN
AR
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
TL
ID
SK
SL
UK
VI
TH
TR
AF
MS
SW
GA
CY
BE
KA
LO
LA
MI
MR
MN
NE
UZ
Deall ymateb precursorau semiconductor mewn un erthygl
Dec 21, 2023
1
Fel y materialedd gwreiddiol cynradd ar gyfer broses cyflwr llwch, cynnwysant precursors semiconductus epitaxy, cyfrifer depositio (Chemical Vapor Material, Deposition, a elwir yn CVD) a phrosesau depositio lyf amrediad atomig (Atomic Layer Deposition, a elwir yn ALD) i ddatblygu materialedd film lledd trethol angenrheidiol ar gyfer cynhyrchu semiconductor, defnyddwyd mewn brynhawn amrywiol o ganlyniadur semiconductor.
