- Pregled
- Povpraševanje
- Povezani izdelki
Za polprevodniški proces plazmenskega odložanja in etčenja 99,9% C318 perfluorociklobutan hladilna plin C4F8
V proizvodnji polprevodniških materialov in naprav služi oktafluorociklobutan kot odložno gas in etčenje. Tudi je bil raziskan kot hladilna snov v posebnih uporabah, kot zamenjava za ozonsko depleksno člorofluorokarbonsko hladivo. Znebjenosti in kemski neaktivnosti oktafluorociklobutana se izkorišča v nekaterih aerosoliziranih hrani. Pridružuje se kemu pod številko Codex Alimentarius 946 (E946 za EU). Raziskuje se ga kot možna zamenjava za šestfluorsulfid kot dielektrični plin.
EN
AR
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
TL
ID
SK
SL
UK
VI
TH
TR
AF
MS
SW
GA
CY
BE
KA
LO
LA
MI
MR
MN
NE
UZ