Bình khí Arf Wavelight Visx Gas Argon Neon F2 Premix Khí Laser Excimer Alcon Lazer Gaz

Khí excimer cho các mô hình phần
Thương hiệu	Bước sóng	Xi lanh	Van
Coherent	193nm	20 L	DIN 8
B & L	193nm	20 L/50 L	DIN 8/ DIN 14
Zeiss	193nm	10L/20 L	DIN 8
VISX	193nm	16 L	CGA 679
NIDEK	193nm	16 L	CGA 679
LASERSIGHT	193nm	10 lít	CGA 679

Yêu cầu thông tin

Tổng Quan
Yêu cầu thông tin
Các sản phẩm liên quan

Mô tả sản phẩm

Wavelight Visx Arf Gas Cylinder Argon Neon F2 Premix Excimer Laser Gas Alcon Lazer Gaz supplier

Argon (AR), Fluorine(F2), Helium (He) Neon(Ne) Các khí đã trộn sẵn được sử dụng để kích thích tia laser trên thiết bị laser excimer nhãn khoa chủ yếu là fluor và argon, với neon làm khí cân bằng.

Sử dụng khí nguyên liệu thô có độ tinh khiết cao nhất. Chuẩn bị chính xác với hệ thống trộn khí tự động, giảm hiệu quả các yếu tố人为 một cách hiệu quả. Bình thép đóng gói áp dụng công nghệ làm thụ động độc đáo, có thể đảm bảo tỷ lệ F2 vi lượng và đảm bảo sự ổn định đáng tin cậy.

Khí đã trộn chủ yếu được sử dụng để kích thích tia laser trong thiết bị laser excimer nhãn khoa là khí flo và argon flo ( ArF ) khí.
AGEM đã duy trì liên lạc chặt chẽ với các nhà sản xuất thiết bị buồng laser từ giai đoạn phát triển sớm của thiết bị laser excimer và đã hỗ trợ trong nghiên cứu và phát triển khí.
Hiện tại, chúng tôi có thể cung cấp Khí ArF đã trộn sẵn cho hầu hết tất cả các thương hiệu các thiết bị laser excimer có mặt trên thị trường.

Khí excimer cho các mô hình phần
Thương hiệu	Bước sóng	Xi lanh	Van
Coherent	193nm	20 L	DIN 8
B & L	193nm	20 L/50 L	DIN 8/ DIN 14
Zeiss	193nm	10L/20 L	DIN 8
VISX	193nm	16 L	CGA 679
NIDEK	193nm	16 L	CGA 679
LASERSIGHT	193nm	10 lít	CGA 679
Alcon	193nm	16 L	CGA 679
SCHWIND	193nm	20 L	DIN 8/ DIN 14
SUMMIT	193nm	16 L	CGA 679